[发明专利]瓷砖铺贴方案生成方法和系统

权利要求书

1.一种瓷砖铺贴方案生成方法，其特征在于，包括：

获取待设计房间的图形数据；

根据所述待设计房间的图形数据确定铺贴区域，并获取所述铺贴区域的尺 寸参数以及待铺贴瓷砖的尺寸参数；

根据所述待设计房间的图形数据确定基准点坐标；

根据所述基准点坐标、所述铺贴区域的尺寸参数及所述待铺贴瓷砖的尺寸 参数获得所述待设计房间的铺贴方案，获取所述铺贴方案中沿所述铺贴区域的 第一方向的整砖数量、非整砖数量及沿所述第一方向的非整砖尺寸、与所述第 一方向垂直的第二方向的整砖数量、非整砖数量及沿所述第二方向的非整砖尺 寸；

计算所述铺贴方案的瓷砖利用率；

输出所述铺贴方案，所述铺贴方案包括所述瓷砖利用率。

2.根据权利要求1所述的瓷砖铺贴方案生成方法，其特征在于，所述获取 待设计房间的图形数据的步骤包括：获取待设计房间的图形数据，根据所述图 形数据确定所述待设计房间的铺贴原则及所述待设计房间的参考Z值；所述参 考Z值为允许最小非整砖面积与整砖面积之比；

所述根据所述待设计房间的图形数据确定基准点坐标的步骤包括：

以所述待设计房间的主视点所在的边建立坐标系；

根据所述待铺贴瓷砖的瓷宽对所述铺贴区域的第一方向的尺寸进行整除， 得到第一方向非整砖实际宽度；

将所述第一方向非整砖实际宽度与所述参考Z值进行比较，并根据比较结 果确定所述第一方向的初步整砖数量、初步非整砖数量和初步非整砖宽度；

根据所述主视点与所述第一方向的尺寸的相对位置、所述第一方向的初步 整砖数量、所述第一方向的初步整砖数量、所述第一方向的初步非整砖宽度和 所述瓷宽确定所述基准点的横坐标；

根据所述待铺贴瓷砖的瓷长对所述铺贴区域的第二方向的尺寸进行整除， 得到第二方向非整砖实际长度；

将所述第二方向非整砖实际长度与所述参考Z值进行比较，并根据比较结 果确定所述第二方向的初步整砖数量、初步非整砖数量和非整砖长度；

根据所述铺贴原则与所述第二方向的初步整砖数量、初步非整砖数量、初 步非整砖长度和所述瓷长确定所述基准点的纵坐标，或根据所述待铺贴瓷砖的 瓷长确定所述基准点的纵坐标。

3.根据权利要求1所述的瓷砖铺贴方案生成方法，其特征在于，所述计算 所述铺贴方案的瓷砖利用率的步骤包括：采用贪心算法，获取所述铺贴方案的 非整砖的切割方案以确定所述铺贴方案的瓷砖利用率。

4.根据权利要求3所述的瓷砖铺贴方案生成方法，其特征在于，所述采用 贪心算法，获取所述铺贴方案的非整砖的切割方案以确定所述铺贴方案的瓷砖 利用率的步骤包括：

整砖填充的步骤，所述整砖填充的步骤包括：

以整砖为铺贴区域，建立坐标系，根据所述整砖的长和宽设置所述坐标系 的横轴x和纵轴y方向的边界得到填充区域；

从图形库中选择面积最大的非整砖图形放入所述填充区域，并使所述非整 砖图形的顶点与辐射点对准；

获取所述待填充区域内的所有辐射点以及与所述辐射点对应的辐射面，计 算所述辐射面的面积，并获取面积最大的所述辐射面以及与所述辐射面对应的 辐射点；

从图形库中选择能够填充所述最大辐射面的非整砖图形放入所述最大辐射 面，并使所述最大辐射面的所述辐射点与所述非整砖图形对应的顶点对准，直 至所述图形库中最小的非整砖图形不能填充当前的最大辐射面；

重复所述整砖填充的步骤，从所述图形库中选择非整砖图形填充下一整砖 直至所述铺贴方案中的非整砖填充完毕；

根据所有整砖被填充面积计算所述铺贴方案的利用率。

5.根据权利要求1所述的瓷砖铺贴方案生成方法，其特征在于，所述获取 待设计房间的图形数据的步骤包括：获取待设计房间的图形数据，根据所述图 形数据确定所述待设计房间的铺贴原则；

所述根据所述待设计房间的图形数据确定基准点坐标的步骤包括：获取用 户根据所述铺贴原则输入的基准点坐标。