[发明专利]一种光刻机运动台系统和光刻机

说明书

本发明公开了一种光刻机运动台系统和光刻机，其中，所述光刻机运动台系统，包括基座台和位于基座台上方的工件台，还包括设置在基座台和工件台之间的随动台，所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。本发明提供的技术方案，通过在基座台和工件台之间增加一个对工件台作跟随运动的随动台，将随动台上表面作为工件台的气浮支撑面，即使是大行程工件台也无需加工大面积气浮支撑面，使气浮式工件台的行程不再受限，大大拓展了使用范围，另外，因随动台面积有限，加工制造更容易，完全能够达到气浮支撑面所需的平整度和刚度，特别是在大行程工件台的领域，可以有效降低制造成本和制造难度。

技术领域

本发明涉及一种光刻机运动台系统和光刻机，应用于光刻技术领域。

背景技术

微电子技术是随着集成电路，尤其是超大型规模集成电路而发展起来的一门新的技术。微电子技术是高科技和信息产业的核心技术，已经渗入到现代技术和社会生活的各个领域，微电子技术的迅速发展改变了现代社会生活的面貌，带来了新的产业革命。随着智能设备在生活中不断普及，对于液晶显示屏幕的需求越来越大，对屏幕生产设备的性能和产能提出了更高的要求。其中，TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)技术是屏幕生产的关键技术。

在TFT光刻机系统中，超精密大行程运动台技术是TFT光刻机系统的核心技术，一直受到行业内的高度重视。随着TFT光刻机向着更高世代的发展，对运动台系统中工件台的行程提出了更高的要求。4.5代TFT光刻机的工件台采用气浮系统实现了工件台的长行程高精度运动，但6代以后的高世代TFT光刻机中，面板尺寸的不断增大，而光刻机的曝光区域却很难再提高，只能增加基板的运动范围，从而要求工件台的行程要更大。

目前光刻机运动台系统包括基座台和位于基座台上方的工件台，工件台通过气浮系统气浮于基座台上。如果面板尺寸增大，工件台的运动行程随之增大，就要求气浮支撑面的尺寸要更大。但是气浮支撑面的平整度要求非常高，增大气浮支撑面会大大增加加工难度，提高了生产成本，如果气模厚度得不到保证，容易出现气足卡死的问题。同时，随着气浮支撑面的增大，刚度要求也随之提高，否则容易变形，影响气浮支撑面的平整度。综上所述，现有技术的运动台系统在增大气浮支撑面时存在不易加工、成本高、平整度不好和易变形的问题，无法满足日益增大的液晶显示屏幕的加工要求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种解决制造难度和成本高、平整度不好和易变形的问题，同时增大工件台行程的光刻机运动台系统及光刻机。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案予以实现：

一种光刻机运动台系统，包括基座台和位于基座台上方的工件台，还包括设置在基座台和工件台之间的随动台，所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。

优选的，所述工件台通过第一驱动单元驱动，所述随动台通过第二驱动单元驱动，所述第一驱动单元驱动所述工件台在基座台平面上做二维运动，所述第二驱动单元驱动所述随动台在基座台平面上做一维或二维运动。

优选的，所述第一驱动单元包括一台X向电机和两台平行设置的Y向电机，三台电机呈H型结构，所述X向电机的定子的两端分别连接两台所述Y向电机的动子，所述工件台设置在所述X向电机的动子上。

优选的，所述第二驱动单元驱动所述随动台在基座台平面上做二维运动时，所述第二驱动单元包括至少一台X向电机和至少一台Y向电机，所述随动台设置在所述X向电机的动子上。

优选的，所述第二驱动单元包括一台X向电机和两台平行设置的Y向电机，三台电机呈H型结构，所述X向电机的定子的两端分别连接两台所述Y向电机的动子。

优选的，所述第二驱动单元包括一台X向电机和一台与之交叉设置的Y向电机，两台电机呈十字型结构，所述X向电机的定子固定在所述Y向电机的动子上。