[发明专利]一种基板处理装置及其处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其至少包括：

一负极机构，所述负极机构至少包括一第一靶位以及对应所述第一靶位的第一驱动机构，所述第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁钢；

所述第一靶材固定于所述第一靶位，所述第一磁钢设置于所述第一靶材相背基板的一侧；

所述第一驱动机构驱动所述第一磁钢在所述第一靶材范围内沿第一方向及第二方向往复运动形成第一磁场，所述第一方向与所述第二方向相反；

所述第一磁钢在平行于所述第一方向上的第一跨度为所述第一靶材在所述第一方向上的第二跨度的八分之一；其特征在于，所述第一磁钢在一次往返运动中，其沿所述第一方向上运动的距离为第一距离，其沿所述第二方向上运动的距离为第二距离，所述第一距离与所述第二距离之和等于两倍的所述第二跨度；

所述第一驱动机构驱动所述第一磁钢匀速运动，所述第一磁钢匀速运动的速度为第一速度；

其包括至少一个正极机构，所述正极机构包括至少一个传送单元，所述基板放置于所述传送单元上相对所述负极机构的一侧，所述传送单元匀速输送所述基板经过所述第一磁场；

所述第一速度设置于29mm/min至41mm/min之间；所述传送单元输送所述基板匀速经过所述第一磁场的速度为第二速度，所述第二速度不大于所述第一速度的0.1倍。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一靶位还至少设置一第二磁钢，所述第一磁钢及所述第二磁钢平行且间隔设置于所述靶材相背所述基板的一侧，所述第二磁钢平行于所述第一方向上的第三跨度与所述第一跨度相等，所述第一磁钢与所述第二磁钢的间隔距离为所述第二跨度的二分之一，所述第一磁钢及所述第二磁钢在一次往返运动中，所述第一磁钢及所述第二磁钢沿所述第一方向上运动的距离之和为第三距离，所述第一磁钢及所述第二磁钢沿所述第二方向上运动的距离之和为第四距离，所述第三距离与所述第四距离之和等于两倍的所述第二跨度。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一驱动机构驱动所述第二磁钢匀速运动，所述第二磁钢匀速运动的速度为第一速度。

4.一种基板处理方法，其特征在于，其至少包括以下步骤：

提供一负极机构以及正极机构，所述正极机构包括至少一个传送单元，基板放置于所述传送单元上相对所述负极机构的一侧；

提供至少一第一靶位，所述第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁钢，所述第一靶材固定于所述第一靶位，所述第一磁钢设置于所述第一靶材相背所述基板的一侧；

提供一第一驱动机构，所述第一驱动机构对应所述第一靶位设置，所述第一驱动机构驱动所述第一磁钢在所述第一靶材范围内沿第一方向及第二方向往复运动形成第一磁场，所述第一方向与所述第二方向相反，所述传送单元匀速输送所述基板经过所述第一磁场；

所述第一磁钢在平行于所述第一方向上的第一跨度为所述第一靶材在所述第一方向上的第二跨度的八分之一；

所述第一磁钢在一次往返运动中，其沿所述第一方向上运动的距离为第一距离，其沿所述第二方向上运动的距离为第二距离，所述第一距离与所述第二距离之和等于两倍的所述第二跨度；

所述第一驱动机构驱动所述第一磁钢匀速运动，所述第一磁钢及匀速运动的速度为第一速度；

其包括至少一个正极机构，所述正极机构包括至少一个传送单元，所述基板放置于所述传送单元上相对所述负极机构的一侧，所述传送单元匀速输送所述基板经过所述第一磁场；

所述第一速度设置于29mm/min至41mm/min之间；所述传送单元输送所述基板匀速经过所述第一磁场的速度为第二速度，所述第二速度不大于所述第一速度的0.1倍。

5.如权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，所述第一靶位还至少设置一第二磁钢，所述第一磁钢及所述第二磁钢平行且间隔设置于所述靶材相背所述基板的一侧，所述第二磁钢平行于所述第一方向上的第三跨度与所述第一跨度相等，所述第一磁钢与所述第二磁钢的间隔距离为所述第二跨度的二分之一。

6.如权利要求5所述的基板处理方法，其特征在于，所述第一驱动机构驱动所述第二磁钢匀速运动，所述第二磁钢匀速运动的速度为第一速度。