[实用新型]用于与温控浴槽一起使用的支架有效
申请号: | 201520046525.9 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN204911558U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | R·D·迪金森;M·J·埃斯特雷拉;N·N·朗 | 申请(专利权)人: | 赛默飞世尔科技(阿什维尔)有限责任公司 |
主分类号: | B01L7/00 | 分类号: | B01L7/00;B01L9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李隆涛 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 温控 一起 使用 支架 | ||
1.一种用于与温控浴槽一起使用的支架,其中所述温控浴槽具有壳体,所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口,其特征在于,所述支架包括:
支架本体;
器皿支承件,其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造;以及
支承足组件,其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足,每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。
2.根据权利要求1所述的支架,其特征在于,还包括调整机构,所述调整结构适于使得至少一个支承足从所述展开位置移动至所述收回位置。
3.根据权利要求2所述的支架,其特征在于,所述调整机构包括手指致动的杠杆件以及将所述杠杆件与所述至少一个支承足操作性相连的连杆。
4.根据权利要求3所述的支架,其特征在于,还包括把手,所述手指致动的杠杆件位于所述把手附近。
5.根据权利要求1至4任一所述的支架,其特征在于,每个支承足以适于自动地移动至所述展开位置的方式被构造。
6.根据权利要求1至4任一所述的支架,其特征在于,每个支承足包括上表面、与所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。
7.根据权利要求1至4任一所述的支架,其特征在于,所述支承足组件包括四个支承足。
8.根据权利要求7所述的支架,其特征在于,每个支承足大体上位于所述支架的下角部附近。
9.根据权利要求1至4任一所述的支架,其特征在于,所述支架本体包括底座、第一侧壁、以及第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件,并且每个支承足在移动至所述展开位置时自所述第一侧壁和第二侧壁之一向外延伸。
10.根据权利要求9所述的支架,其特征在于,所述支承足组件包括与所述第一侧壁相关联的两个支承足以及与所述第二侧壁相关联的两个支承足。
11.一种组件,其特征在于,所述组件包括:
温控浴槽,其中所述温控浴槽具有壳体,所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口;以及
用于与所述温控浴槽一起使用的支架,所述支架包括:
支架本体;
器皿支承件,其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造;以及
支承足组件,其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足,每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。
12.根据权利要求11所述的组件,其特征在于,在所述支承足移动至所述收回位置时,所述支架适于降低到所述储存器内的工作流体中;并且在所述支承足移动至所述展开位置时,所述支架被禁止降低到所述储存器内的工作流体中。
13.根据权利要求11或12所述的组件,其特征在于,所述壳体具有上表面,并且每个支承足包括底表面,所述底表面以当所述支承足移动至所述展开位置时安坐在所述上表面上的方式被构造,所述底表面在所述展开位置处于大体水平的朝向并且在所述收回位置处于倾斜的朝向。
14.根据权利要求11或12所述的组件,其特征在于,所述支架被限定为根据权利要求1至10任一所述的支架。
15.根据权利要求13所述的组件,其特征在于,所述支架被限定为根据权利要求1至10任一所述的支架。
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