[实用新型]用于与温控浴槽一起使用的支架有效
申请号: | 201520046525.9 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN204911558U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | R·D·迪金森;M·J·埃斯特雷拉;N·N·朗 | 申请(专利权)人: | 赛默飞世尔科技(阿什维尔)有限责任公司 |
主分类号: | B01L7/00 | 分类号: | B01L7/00;B01L9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李隆涛 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 温控 一起 使用 支架 | ||
技术领域
本实用新型大体上涉及温控浴槽并且更具体地讲涉及用于在温控浴槽中支承器皿的支架。
背景技术
诸如循环浴槽的温控浴槽在实验室环境中采用,以便将温控的诸如水的工作流体提供在储存器中。使用者可以通过将实验室环境的材料试样放置在储存器中或者通过使得工作流体在储存器与外界应用装置之间循环来利用所述温控浴槽。传统的温控浴槽应用包括将材料试样放置到药瓶、试管、烧杯等器皿中,并且然后将所述器皿放置在储存器内。器皿周围的工作流体的温度由温控浴槽控制,以控制材料试样的温度。例如,温控浴槽可以使得工作流体移动经过加热或冷却元件,从实现工作流体的期望的温度,并因而控制材料试样的温度。
支架有时被用于保持放置到温控浴槽内的器皿。例如,使用者可以将器皿置于支架中,并然后将支架放入到温控浴槽内以使得器皿与工作流体接触。当使用者期望取用容纳在器皿内的材料试样时,使用者将支架从温控浴槽取出。由于支架与器皿的一些部分已经与工作流体接触,所以使用者通常会将支架放到一容器内、或一托盘上、或一种吸收材料上,从而防止工作流体掉出支架和/或器皿并且防止工作流体污染实验室环境。另外,当支架从温控浴槽被取出后从储存器带出的工作流体会使得储存器内的工作流体的量减少。因而,工作流体必须被定期地添加至储存器从而替代被带走的工作流体。
因而,存在与温控浴槽及其一起使用的支架有关的改进需求。
实用新型内容
本实用新型克服了前述的问题以及针对温控浴槽的支架的其它不足、缺陷、以及挑战。尽管本实用新型将结合特定的实施例予以描述,但是应当理解本实用新型并不限于那些实施例。相反,本实用新型包括可以在本实用新型的精神和范围内包含的所有替代、改型以及等价物。
在本实用新型的一个实施例中,提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架,所述温控浴槽具有壳体,所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由支架本体支承的器皿支承件,所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件,其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。
在本实用新型的另一个实施例中,温控浴槽与支架结合地被设置。温控浴槽包括壳体,所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架包括支架本体以及由所述支架本体支承的器皿支承件,所述器皿支承件被构造成支承至少一个器皿。支架还包括支承足组件,其由支架本体支承并包括多个支承足。每个支承足被构造成在收回位置与展开位置之间移动。
在本实用新型的另一个实施例中,提供了将支架与温控浴槽一起使用的方法,其中所述温控浴槽具有壳体,所述壳体包含供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口。支架支承至少一个器皿并且包括支承足组件,所述支承足组件包括多个支承足,各支承足能够在收回位置与展开位置之间移动。该方法包括使得支承足移动至收回位置,并且将支架降低到储存器内的工作流体中。
具体地讲,根据本实用新型的一个方面,提供了一种用于与温控浴槽一起使用的支架,其中所述温控浴槽具有壳体,所述壳体包括供应有工作流体的储存器以及提供对所述储存器触用的开口,其特征在于,所述支架包括:
支架本体;
器皿支承件,其中所述器皿支承件由所述支架本体支承并以支承至少一个器皿的方式被构造;以及
支承足组件,其中所述支承足组件由所述支架本体支承并包括多个支承足,每个支承足以适于在收回位置与展开位置之间移动的方式被构造。
优选地,所述支架还包括调整机构,所述调整结构适于使得至少一个支承足从所述展开位置移动至所述收回位置。
优选地,所述调整机构包括手指致动的杠杆件以及将所述杠杆件与所述至少一个支承足操作性相连的连杆。
优选地,所述支架还包括把手,所述手指致动的杠杆件位于所述把手附近。
优选地,每个支承足以适于自动地移动至所述展开位置的方式被构造。
优选地,每个支承足包括上表面、与所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。
优选地,所述支承足组件包括四个支承足。
优选地,每个支承足大体上位于所述支架的下角部附近。
优选地,所述支架本体包括底座、第一侧壁、以及第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件,并且每个支承足在移动至所述展开位置时自所述第一侧壁和第二侧壁之一向外延伸。
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