[实用新型]一种晶体频率微调机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种晶体制备装置，特别涉及一种晶体频率微调机。

背景技术

晶体一次成型后其频率有的达标有的会不达标，因此需要对晶体频率进行微调。现有技术中的频率微调机的挡板在微调圈和蒸发舱之间，钼舟离得远，因此喷得散，银皮容易夹在微调圈和蒸发舱之间，因此对银的浪费比较大，不容易清理，并且喷射效果不好。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种设计合理，使用方便的晶体频率微调机。

本实用新型所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的，本实用新型是一种晶体频率微调机，包括设在工作台上的底盘，底盘上罩有真空罩，真空罩内形成真空腔室，在底盘的下方设有与真空腔室相连的抽真空机组，其特点是：在真空腔室内设有旋转盘，旋转盘上装有固定晶体的微调圈，在微调圈内设有蒸发舱，在微调圈外设有与蒸发舱配合的频率测试头，正对频率测试头的蒸发舱前舱壁上设有喷射孔，在蒸发舱内设有蒸镀机构，蒸镀机构与蒸发舱前舱壁之间设有与喷射孔配合的挡板。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，所述的晶体频率微调机中：所述蒸镀机构包括两个钼舟和两个电极柱，两个钼舟分别通过钼杆与同侧的电极柱相连。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，所述的晶体频率微调机中：在蒸发舱的后方设有驱动挡板左右运动的电磁装置，所述的电磁装置包括两根水平设置并正对的电磁杆，两根电磁杆之间设有吸附间隙，在吸附间隙处设有穿过蒸发舱的后舱壁与挡板相连的金属档杆。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，所述的晶体频率微调机中：所述的微调圈包括圈体，在圈体的上部沿其周向方向设有若干竖向设置的晶体安装槽，在圈体的底部设有若干安装孔。

本实用新型通过将挡板设在蒸镀机构与蒸发舱前舱壁之间，这样减少钼舟距晶体的距离，使钼舟喷出的银集中、不分散，同时被挡住的银皮留存在挡板上，这样方便清理，不会出现堵塞现象。与现有技术相比，其结构合理，使用方便，可以调高生产效率，节约生产成本。

附图说明

图1是本实用新型的一种俯视结构示意图。

具体实施方式

以下参照附图，进一步描述本实用新型的具体技术方案，以便于本领域的技术人员进一步地理解本发明，而不构成对其权利的限制。

参照图1，一种晶体频率微调机，包括设在工作台7上的底盘1，底盘1上罩有真空罩，真空罩内形成真空腔室，在底盘1的下方设有与真空腔室相连的抽真空机组。在真空腔室内设有旋转盘，旋转盘上装有固定晶体的微调圈9。微调圈9包括圈体，在圈体的上部沿其周向方向设有若干竖向设置的晶体安装槽，在圈体的底部设有若干安装孔，旋转盘上装有支柱，圈体上的安装孔插装在支柱上。

在微调圈9内设有蒸发舱2，在微调圈9外设有与蒸发舱2配合的频率测试头5，正对频率测试头5的蒸发舱2前舱壁上设有喷射孔，在蒸发舱2内设有蒸镀机构，蒸镀机构包括两个钼舟6和两个电极柱3，两个钼舟6分别通过钼杆与同侧的电极柱3相连。蒸镀机构与蒸发舱2前舱壁之间设有与喷射孔配合的挡板4。在蒸发舱2的后方设有驱动挡板4左右运动的电磁装置，所述的电磁装置包括两根水平设置并正对的电磁杆10，两根电磁杆10之间设有吸附间隙，在吸附间隙处设有穿过蒸发舱2的后舱壁与挡板4相连的金属档杆8。8。

使用时，将晶体放在微调圈9的晶体安装槽中，然后将微调圈9放到旋转盘中，盖上真空罩。启动设备，钼舟6加热、喷银，电磁杆10通电，吸附金属档杆8，使金属档杆移动或归位，从而使挡板4按一定的频率挡住喷射孔或离开喷射孔。需要喷银时挡板4离开喷射孔，不需要喷银时挡住喷射孔，这样直到整个微调圈9上的晶体频率都微调好。