[实用新型]晶片组件以及成像系统有效

专利信息
申请号: 201520152272.3 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN204422960U 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 达靖虹 申请(专利权)人: 达靖虹
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G02B5/20
代理公司: 代理人:
地址: 100000 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片 组件 以及 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种晶片组件,该晶片组件包括依次叠置的多层成像基片,还包括侧部基片和基片固定单元,侧部基片位于多层成像基片侧面,基片固定单元将多层成像基片与侧部基片固定,成像基片上雕刻有图像信息,其特征在于侧部基片包括反光膜。

2.根据权利要求1所述的晶片组件,其特征在于,成像基片包括原材和镀于原材上的各色滤光膜。

3.根据权利要求2所述的晶片组件,其特征在于,成像基片上雕刻有图像信息包括使用激光设备根据单色图像信息消除每个基片上单色图像不需要的滤光膜,以及削薄单色图像不同部位的滤光膜的厚度,从而在基片上形成图像信息。

4.根据权利要求1所述的晶片组件,其特征在于,侧部基片具有中央被击穿为圆形或方形或不规则形状的窗口,周边的反光膜被保留。

5.根据权利要求1所述的晶片组件,其特征在于,多层成像基片包括三层基片,多层成像基片之间可以采用压制或粘胶层叠放置。

6.根据权利要求1所述的晶片组件,其特征在于,成像基片和侧部基片上的镀膜仅存在于原材的一面上,固定形成晶片组件时,成像基片上的镀膜都处于靠近侧部基片的一面上。

7.根据权利要求6所述的晶片组件,其特征在于,侧部基片上的镀膜处于靠近成像基片的一面上。

8. 一种成像系统,其特征在于该成像系统包括如权利要求1-7任一项所述的晶片组件和光源。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于达靖虹;,未经达靖虹;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520152272.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top