[实用新型]一种掩模版的夹持装置有效
| 申请号： | 201520154596.0 | 申请日： | 2015-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN204515341U | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 游定平 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人： | 陈琳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 模版 夹持 装置 | ||
1.一种掩模版的夹持装置，包括总架，其特征在于，还包括：
固定组件，其包括可调支架和掩模版固定件，该掩模版固定件设置在可调支架上，用于固定掩模版；
底部支撑架，其与可调支架连接，并与总架转动连接，该可调支架通过底部支撑架在一定倾斜角度上进行摆动。
2.根据权利要求1所述的夹持装置，其特征在于：该底部支撑架包括一移动组件，该可调支架与移动组件连接，该可调支架通过移动组件在底部支撑架上移动。
3.根据权利要求2所述的夹持装置，其特征在于：该移动组件包括第一锁定件。
4.根据权利要求2所述的夹持装置，其特征在于：该移动组件包括设置在底部支撑架上的移动轨道，该可调支架的底部包括与移动轨道配合的限位结构，该可调支架通过限位结构在移动轨道上移动。
5.根据权利要求1所述的夹持装置，其特征在于：该掩模版固定件包括设置在移动架底部的底部掩模版固定件，和设置在移动架顶部的顶部掩模版固定件。
6.根据权利要求5所述的夹持装置，其特征在于：该掩模版固定件包括一固定凹槽。
7.根据权利要求5所述的夹持装置，其特征在于：该底部掩模版固定件为“L”型结构。
8.根据权利要求1所述的夹持装置，其特征在于：还包括一旋转轴，该底部支撑架通过旋转轴与总架旋转连接。
9.根据权利要求8所述的夹持装置，其特征在于：该总架包括一限位凹槽，该底部支撑架设置在限位凹槽内。
10.根据权利要求9所述的夹持装置，其特征在于：还包括与底部支撑架连接的第二锁定组件。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
