[实用新型]一种掩模版的夹持装置有效
申请号: | 201520154596.0 | 申请日: | 2015-03-18 |
公开(公告)号: | CN204515341U | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 游定平 | 申请(专利权)人: | 深圳市龙图光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人: | 陈琳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模版 夹持 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及掩模版技术领域,具体涉及一种掩模版的夹持装置。
背景技术
掩模版是一种在薄膜、塑料或玻璃基体材料上,制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的结构,其也称光罩或光学掩模版,常见的掩模版有铬版、干版和菲林等。
掩模版在生产、运输、安装或使用之中,会在掩模版表面产生某些缺陷,如划伤、顶伤、蹭伤、白缺陷、黑缺陷等,故在生产完成后或使用一段时间后,应对掩模版表面进行检查。
现有的检查方式包括自动检查和人工检查,其中自动检查是通过自动检测设备进行检查,但是其投入成本高,检查效率低、检查准确性低;而人工检查一般是在强光下进行查看是否存在缺陷,但是其不能正常检查大尺寸掩膜版的外观缺陷。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种掩模版的夹持装置,提高掩模版的检查效率。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种掩模版的夹持装置,包括总架,还包括:
固定组件,其包括可调支架和掩模版固定件,该掩模版固定件设置在可调支架上,用于固定掩模版;
底部支撑架,其与可调支架连接,并与总架转动连接,该可调支架通过底部支撑架在一定倾斜角度上进行摆动。
其中,较佳方案是:该底部支撑架包括一移动组件,该可调支架与移动组件连接,该可调支架通过移动组件在底部支撑架上移动。
其中,较佳方案是:该移动组件包括第一锁定件。
其中,较佳方案是:该移动组件包括设置在底部支撑架上的移动轨道,该可调支架的底部包括与移动轨道配合的限位结构,该可调支架通过限位结构在移动轨道上移动。
其中,较佳方案是:该掩模版固定件包括设置在移动架底部的底部掩模版固定件,和设置在移动架顶部的顶部掩模版固定件。
其中,较佳方案是:该掩模版固定件包括一固定凹槽。
其中,较佳方案是:该底部掩模版固定件为“L”型结构。
其中,较佳方案是:还包括一旋转轴,该底部支撑架通过旋转轴与总架旋转连接。
其中,较佳方案是:该总架包括一限位凹槽,该底部支撑架设置在限位凹槽内。
其中,较佳方案是:还包括与底部支撑架连接的第二锁定组件。
本实用新型的有益效果在于,与现有技术相比,本实用新型通过设计一种掩模版的夹持装置,在检查掩模版前夹紧掩模版,实现对大尺寸掩膜版进行人工外观检查,降低成本;同时掩模版可通过夹持装置进行角度旋转,提高检查准确性,提高检查效率。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:
图1是本实用新型夹持装置的剖面正视图;
图2是本实用新型夹持装置的剖面左视图;
图3是本实用新型夹持装置的剖面放大图;
图4是本实用新型掩模版固定件的剖面正视图;
图5是本实用新型掩模版固定件的剖面左视图。
具体实施方式
现结合附图,对本实用新型的较佳实施例作详细说明。
如图1和图2所示,本实用新型提供一种掩模版的夹持装置的优选实施例,其中,图1是夹持装置的剖面正视图;图2是夹持装置的剖面左视图
一种掩模版的夹持装置,包括总架30,还包括固定组件10和底部支撑架20,掩模版通过固定组件10固定,并通过底部支撑架20带动旋转,便于掩模版的检查。
其中,固定组件10,其包括可调支架11和掩模版固定件12,掩模版固定件12设置在可调支架11上,用于固定掩模版;底部支撑架20,其与可调支架11连接,并与总架30转动连接,可调支架11通过底部支撑架20在一定倾斜角度上进行摆动。
具体地,可调支架11是设置在底部支撑架20上的两端的支撑架,包括第一可调支架11和第二可调支架11,掩模版固定在第一可调支架11和第二可调支架11之间。
掩模版固定件12包括设置在移动架底部的底部掩模版固定件121,和设置在移动架顶部的顶部掩模版固定件122,即包括两个底部掩模版固定件121和两个顶部掩模版固定件122,通过四个掩模版固定件12将掩模版固定在第一可调支架11和第二可调支架11之间。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备