[实用新型]对位机构以及设有该对位机构的曝光机有效

专利信息
申请号: 201520161735.2 申请日: 2015-03-20
公开(公告)号: CN204595429U 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 张方德;谢桂平 申请(专利权)人: 浙江欧视达科技有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人: 宋义兴
地址: 325011 浙江省温州市温州高新*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 对位 机构 以及 设有 曝光
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及曝光技术领域,尤其涉及一种能进行自动对位的对位机构以及设有该对位机构的曝光机。

背景技术

在曝光机对PCB板进行曝光中,要保证曝光精度高,曝光得到的图形更清晰和稳定,其中对PCB板的定位要求更高,因此为保证PCB板的最佳位置,减少PCB板的位置误差,曝光机中还专门设有用于调节PCB板的放置位置并减少该误差的对位机构。

现有技术中,出现了很多用于调节PCB板位置误差的对位机构,虽然从一定程度上解决了现有技术中没有调节PCB板位置,使得曝光精度低、曝光显示图像差的问题,由于对PCB板的调节是微调,甚至需要精确到微米级,现有的对位机构还存在如下的问题:(1)PCB板放置位置最主要是角度的误差,现有的对位机构角度调节精度低,一般都是通过传统的旋转电机进行驱动,需要跟转换机构配合进行传动,,在进给速度、加速度、快速定位精度等方面很难有突破性的提高,中间转换的机构会对传递结果造成一定的误差,无法精确调节PCB板存在的角度误差,从而无法保证精度;(2)现有的驱动机构由电机、轴、轴承一、轴承二和轴承套组成,来驱动进行X、Y以及转动方向的运动,连接时,轴一端与电机直接相连,存在一个间隙,轴另一端通过单独的深沟球轴承进行支撑,换向时,先有一个间隙的移动和径向移动,稳定性差,直接影响到调节的精度。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中的不足,提供一种对位机构,结构简单,稳定性好,调节精度高。

为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:

一种对位机构,包括基座组件以及可转动设置在基座组件上的对位支架、调节对位支架相对基座组件转动的角度调节装置,所述角度调节装置设置在所述基座组件上,所述角度调节装置包括推动装置和用于驱动所述推动装置平移的第一驱动装置,所述第一驱动装置包括直线电机组件和光栅组件,所述光栅组件包括光栅尺、安装支架和光栅尺读数头,所述光栅尺读数头与推动装置相连并与推动装置移动方向平行设置,所述安装支架与基座组件相连,所述光栅尺设置在所述的安装支架上。

优选的,所述推动装置包括推板结构、配合推板结构相对基座组件滑动的第四滑动组件、设置在推板结构一端上的转动体一,所述推板结构一侧与直线电机组件相连,另一侧与光栅组件相连,所述推板结构包括推板结构本体、在所述推板结构本体的前端上设有的轴一,所述转动体一套装在轴一上并能相对轴一转动;所述转动体一的外周面与所述对位支架一端的端面相接触,所述直线电机组件驱动所述推板结构前进带动所述转动体一进行转动时,所述转动体一的外周面与所述对位支架接触时产生推压力,所述推压力作用在所述对位支架上,驱动对位支架相对基座组件进行转动。

优选的,所述第四滑动组件包括设置在所述基座组件上的导轨四和与导轨四相配合的滑块四,所述导轨四包括上导轨四本体、下导轨四本体以及在上导轨四本体和下导轨四本体连接后两侧分别形成的导槽四,所述滑块四包括滑块四本体和在滑块四本体上设有的与导槽四相配合的导向块四以及在导向块四上方设有的用于容纳上导轨四本体的腔体。

优选的,所述角度调节装置还包括用于平衡所述对位支架和推板结构的第一平衡装置,所述第一平衡装置包括分别设置在对位支架和推板结构上的支撑柱一以及连接所述推板结构与所述对位支架的弹性件一,所述弹性件一的一端通过支撑柱一与推板结构相连,另一端通过支撑柱一与对位支架相连。

优选的,还包括驱动所述基座组件和对位支架一并沿Y方向移动的第一移动装置和一并沿X方向移动的第二移动装置以及连接第一移动装置和第二移动装置的连接基板,所述第一移动装置与所述基座组件相连,所述连接基板设置在所述第一移动装置上方,所述第二移动装置设置在所述连接基板上方。

优选的,所述第一移动装置包括至少两对第一滑动组件以及驱动所述基座组件和对位支架一并沿Y方向移动的第二驱动装置,所述第一滑动组件包括与基座组件相连的滑块一、与滑块一相配合的并连接在所述连接基板底部的导轨一,所述导轨一包括两个导槽一,所述滑块一设有两个导向块一,滑动时,通过两个导向块一嵌入到导槽一。

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