[实用新型]一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体激光加工光源系统，具体为一种防光反馈并且具有反馈光分析预警功能的半导体激光加工光源系统。

背景技术

高功率半导体激光器具有体积小、重量轻、效率高、寿命长等优点，己广泛用于激光加工领域。在激光加工过程中，高功率半导体激光器出射的激光在加工件表面加工时，加工件会对激光进行部分反射，这部分反馈光极易进入高功率半导体激光器中，造成激光器输出光谱的不稳定，输出功率的抖动等现象，甚至会降低半导体激光器的使用寿命。目前消除反馈光的技术主要基于法拉第隔离镜原理或光的偏振原理，一般采用检偏器或双折射晶体、波片等光学器件，这种消除光反馈的方法由于引入多个光学器件，会降低系统的光学效率，且当防反馈的光学器件损坏或失效时，不但不能消除加工工件反射的反射光，还有可能直接反射部分激光能量，严重影响了系统的可靠性。

实用新型内容

本实用新型提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，不但有效防止反馈光回射损伤激光器，而且可以对反馈光进行分析和预警，提高了系统的可靠性。

本实用新型的技术方案如下：

一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器，光学整形模块，壳体，防反馈遮板，信号传输部件以及反馈光分布分析与预警控制器。

所述的半导体激光器固定设置于壳体内，所述的光学整形模块固定设置于壳体内且位于半导体激光器的出光方向上，壳体的前端设置保护窗口，保护窗口的中心位于半导体激光器出光光路的光轴上。所述的防反馈遮板设置在半导体激光器与光学整形模块之间且靠近半导体激光器，防反馈遮板的四周接触壳体，将壳体内部分为两个腔体，该防反馈遮板对应半导体激光器的位置设有通孔，通孔的尺寸可以使半导体激光器发出的激光光束完全通过。

所述的半导体激光器为半导体激光器叠阵。

所述的防反馈遮板面向半导体激光器的表面上设置有多个热电传感器，且多个热电传感器间距均匀的环绕分布在防反馈遮板通孔的四周，用于将防反馈遮板吸收的反馈光能量转换为电信号。所述的信号传输部件用于将热电传感器产生的信号传送至反馈光分布分析与预警控制器；所述的反馈光分布分析与预警控制器包括电路板和显示屏，电路板用于信号处理及预警控制，显示屏用于显示反馈光分布分析与预警控制器处理的反馈光参数。

半导体激光器发出的激光穿过防反馈遮板的通孔，作用于被加工工件，被加工工件由于漫反射产生回射的反馈光，回射的反馈光大部分会被防反馈遮板阻挡且吸收，反馈光的能量会转化为热量，由热电传感器处理转换成电信号，经信号传输部件传送至反馈光分布分析与预警控制器，控制器根据不同热电传感器产生的不同信号变化量，分析出反馈光的发射方向与能量分布，并通过显示屏显示所需参数。若反馈光能量超过控制器设定值时，控制器会发出预警，以提示使用者调整半导体激光器输出功率或者安装位置，以降低或者消除反馈光对半导体激光光源的影响。

所述的信号传输部件为有线传输部件，或者为无线传输部件。所述的有线传输部件为信号电缆，信号电缆的数量与热电传感器的数量相同且信号电缆与热电传感器一一对应，所述每一条信号电缆的一端均连接在反馈光分布分析与预警控制器上，另一端分别与所对应的热电传感器连接；所述的无线传输部件包括设置在防反馈遮板上的信号发射端和设置在反馈光分布分析与预警控制器上的信号接收端，所述的信号发射端与热电传感器连接。

所述的防反馈遮板可以为光阑，所述的防反馈遮板可以采用1片光阑，也可以同时采用多片光阑，来实现更好的防反馈效果，比如采用两片光阑，分别对应于激光光束的快轴和慢轴。防反馈遮板还可以为光吸收率高的吸收板，且吸收板上开有可以使激光完全通过的通孔。

所述的半导体激光器与防反馈遮板之间设置聚焦装置，用于将半导体激光器发出的激光进行会聚，以减小防反馈遮板的通孔尺寸，来实现更好的防反馈效果。所述的聚焦装置可以为一片球透镜或者柱透镜，也可以为多片准直透镜，所述的多片准直透镜分别用于对半导体激光器的快轴和慢轴进行准直，或者同时对快轴和慢轴进行准直。快轴准直透镜为准直D型非球面透镜，慢轴准直透镜为柱面透镜。

所述的光学整形模块包括至少两片柱透镜或者球透镜，用于将半导体激光器发出的激光整形为所需的光斑。

所述的热电传感器为热敏电阻。

所述的半导体激光器上设置有指示单元，指示单元可以发出可见光，该可见光经光学整形模块后会聚点位于半导体激光器光斑的中心。