[实用新型]阀组件和真空室组件有效
申请号: | 201520295458.4 | 申请日: | 2015-05-08 |
公开(公告)号: | CN204768573U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 约亨·克劳瑟;米夏埃尔·霍夫曼 | 申请(专利权)人: | 冯·阿登纳有限公司 |
主分类号: | B01J3/03 | 分类号: | B01J3/03;C23C14/56;F16K15/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘明海;杨生平 |
地址: | 德国德*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 真空 | ||
技术领域
本发明涉及一种阀组件和一种真空室组件。
背景技术
通常,可使用处理设备,来处理例如加工、涂层、加热、刻蚀和/或结构改变工件或基体,例如板形基体、玻璃板、晶片或其他载体。对基体的处理例如可以在处理设备的室中完成,其中,该室可这样地设置,即,可在室内提供对于该处理而必须的条件(处理条件)。对此必须的或有益的是,将处理设备的室和/或其他室相互或相对于处理设备的环境密封。
处理设备的不同的室可借助于所谓的室壁或隔壁相互分开,例如对于水平连续涂层设备(串联-设备)来说借助于竖直室壁或竖直隔壁。在此,每个室壁(或隔壁)可以下述方式具有基体-转运-开口(基体-转运-缝隙),即,基体可被运输通过室壁,例如从处理设备的第一室进入处理设备的第二室。此外,处理设备可在输入区域和/或输出区域上这样地具有基体-转运-开口,即,基体可被置入处理设备中,和/或可从处理设备中取出。
为了相互密封处理设备的不同的室,或为了将处理设备的室相对于环境密封,各室的基体-转运-开口可借助于阀封闭和/或密封。
传统的阀例如可被设置成止回阀,其中,止回阀的阀盖设置成运动的或可围绕旋转轴线旋转,从而密封室的基体-转运-开口。例如,传统的阀盖可借助于多个成行地沿着相应的旋转轴线布置的铰链可旋转地被支承。由于多个铰链可实现机械稳定性,当然由此对于传统的阀盖也必要的是,精确地设置铰链,且在安装阀盖时精确地对准铰链,从而实现阀盖的足够密封效果。明显地,对于多个铰链的情况困难的是,将阀盖精确地对准包围基体-转运-开口的密封面(待密封的密封面)。与其相关的对于制造误差的要求例如可涉及到高的成本。
明显地,在阀盖的轴承结构中相对于待密封的密封面的小的偏差(错位位置)可降低阀盖的密封效果,或导致在阀盖与待密封的密封面之间形成不均匀的缝隙。此外,用于避免阀盖的错位位置的制造成本变大,基体-转运-开口越宽,则由此阀盖越宽,且由此导致额外的成本。
发明内容
在不同的实施方式中,提供具有可旋转的阀盖的止回阀,其中,可旋转的阀盖制造、安装简单,且可真空密封地封闭。对此,阀盖位于待密封的密封面上的密封部可这样地被支承在两个旋转臂之间,即,阀盖的密封部可匹配待密封的密封面的形状。明显地,两点轴承结构可借助于旋转臂实现阀盖的一定的韧性,且由此可以平衡不均匀的缝隙。
此外,可借助于旋转臂实现轴承结构点或阀盖的位置相对于基体-转运-开口的不复杂的匹配。对此,旋转臂可相互独立地可旋转地和/或可调节地被设置,使得旋转臂的相对位置和/或相对方位可相互设置。明显地,在随后借助于旋转臂安装阀盖时可以平衡错位位置或偏差,这例如由于更大的制造误差而可使得制造成本更低。
此外,针对止回阀的制造成本在宽的待密封的基体-转运-开口的情况下被降低(例如在基体-转运-开口的宽度在大致1m至大致5m的宽度范围中的情况下),因为阀盖的轴承结构可独立于基体-转运-开口的宽度而实现。这使得针对不同宽度的基体-转运-开口可使用相同或类似的组件,这可降低成本,例如当使用不同的基体-几何形状时。
根据不同实施方式已知,用于将阀盖固定在可旋转的轴承上的固定结构可承受高的负载,该高的负载可导致材料疲劳和/或导致固定结构失灵。例如,在挤压阀盖抵靠室壁的密封面时通过固定结构传递的力可超过固定结构的负载能力。这可能由于固定结构的频繁更替的负载,在处理设备运行期间,在阀盖的持续周期性打开和闭合的情况下增强。明显地,出现的力例如可导致使用的螺栓或焊缝破裂,它们用于将阀盖固定在可旋转的轴承上。
在不同的实施方式中,阀盖借助于固定结构这样地被固定在可旋转的轴承上,即,出现的力在处理设备运行时直接借助于形配合传递到阀盖上,而不通过固定结构。由此,根据不同实施方式,可降低固定结构的负载。
根据不同实施方式,基体-转运-开口可纵向延伸,其中,阀盖可沿着基体-转运-开口的纵向延伸而纵向延伸。明显地,基体-转运-开口可以是裂口状的,从而在运输通过基体-转运-开口的板形基体与室壁之间提供小的缝隙高度。小的缝隙高度可提高邻接基体-转运-开口的两个区域之间的,例如处理设备邻接基体-转运-开口的两个室之间的压力分隔。
根据不同实施方式,处理设备通常可具有室壳体,可在其中提供处理设备的一个或多个室。室壳体例如可以与真空泵组件耦合,从而提供负压或真空(真空室壳体),且这样地稳定设置,即,在泵出的状态下承受空气压力产生的影响。相应地,可提供真空室或可提供在室壳体中的多个室。
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