[实用新型]一种氧化钨分子中氧指数的测定系统

权利要求书

1.一种氧化钨分子中氧指数的测定系统，其特征在于，该系统包括试样称取装置，其带有自动称量控制器，具有自动显示重量和自动控制称量精度装置；试样器皿；试样灼烧装置，其位于试样称取装置的下游，设有温度控制器和时间控制器；干燥装置，其位于试样灼烧装置的下游，与称重装置相通；以及计算装置，其位于干燥装置的下游。

2.如权利要求1所述的测定系统，其特征在于，试样灼烧装置具有试样器皿的置入通道和移出通道；和/或，试样称取装置与计算装置之间具有信息联通。

3.如权利要求1所述的测定系统，其特征在于，试样称取装置包括可称取允许差万分之一的0-120g范围内样品的自动称量控制器；温度控制器为0-1000℃温度设定并精确可调的控制器；和/或，时间控制器为0.0-3.0小时时间设定并精确可调的控制器。

4.如权利要求1所述的测定系统，其特征在于，计算装置包括对氧化钨试样中残氨灼烧挥发的影响进行修正的修正单元；和/或，计算装置包括对WO₃高温灼烧的损失进行修正的修正单元。

5.如权利要求4所述的测定系统，其特征在于，计算装置包括对氧化钨试样中残氨灼烧挥发的影响进行含量0.13-0.17％修正的修正单元；和/或，计算装置包括对WO₃高温灼烧的损失进行0.23-0.27％修正的修正单元。

6.如权利要求1所述的测定系统，其特征在于，试样称取装置为天平；试样器皿为瓷坩埚；试样灼烧装置为马弗炉；和/或，干燥装置为干燥器。

7.如权利要求6所述的测定系统，其特征在于，试样称取装置为精度万分之一的天平。

8.如权利要求1或6所述的测定系统，其特征在于，试样称取装置为电子天平或电光天平。

9.如权利要求1所述的测定系统，其特征在于，试样器皿为瓷坩埚；试样灼烧装置为马弗炉；和/或，干燥装置为干燥器。

10.如权利要求9所述的测定系统，其特征在于，试样器皿为30ml或50ml的瓷坩埚；和/或，试样灼烧装置为能快速升温至1000℃并温度精确可调的马弗炉。