[实用新型]一种硅晶片背面湿法喷砂用砂子回收装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及到半导体硅晶片的制造领域，具体的说是一种硅晶片背面湿法喷砂用砂子回收装置。

背景技术

在半导体硅抛光片制造过程中，为了使硅晶片背面更好地吸杂，需要背面损伤设备通过高压喷砂的方式，在硅晶片背面产生软损伤。背面软损伤设备是使用湿法喷砂的原理，即一定量的砂子，与18兆纯水按比例混合于设备自带储液槽内并搅拌均匀使用。目前，国内外背面软损伤工艺用砂子普遍使用日本FUJIMI公司产的FQ3000或FQ2000型，其主要成分是Al₂O₃。背面软损伤砂子价格昂贵，每台喷砂设备每月消耗砂子近百万左右。主要成分是Al₂O₃的背面软损伤砂子与水混合后，极易沉淀。目前，国内外多数半导体硅片制造厂商，背损伤设备喷砂对硅片背面软损伤过程中，对砂子均不回收；喷在硅片表面的砂子随着冲洗硅片的纯水直接排入下水管道，这样一方面会造成极大的浪费，另外一方面还极易造成下水管道的堵塞。

实用新型内容

为解决现有技术中湿法喷砂工序中的砂子不回收导致的原材料浪费以及下水管道堵塞问题，本实用新型提供了一种硅晶片背面湿法喷砂用砂子回收装置。

本实用新型为解决上述技术问题采用的技术方案为：一种硅晶片背面湿法喷砂用砂子回收装置，包括由横向支撑杆和纵向支撑杆支撑加固的不锈钢槽体，不锈钢槽体的底部设置有万向脚轮，上部设置有推车把手，在不锈钢槽体长度方向的两端分别设置有与下水管道连接的出水口和与喷砂设备排液口连接的进水口，不锈钢槽体的内部设置有两块不锈钢隔断溢流板，两块不锈钢隔断溢流板将不锈钢槽体的内部空间依次分隔成一级沉淀槽、二级沉淀槽和三级沉淀槽，且一级沉淀槽靠近进水口，三级沉淀槽靠近出水口。

所述两块不锈钢隔断溢流板的顶部为锯齿状。

所述进水口的位置高于两块不锈钢隔断溢流板的顶部位置，出水口的位置低于两块不锈钢隔断溢流板的顶部位置。

所述一级沉淀槽为不锈钢槽体的一半，二级沉淀槽和三级沉淀槽大小相同。

本实用新型中，不锈钢槽体、横向支撑杆、纵向支撑杆、万向脚轮和推车把手等焊接在一起，组成一个不锈钢槽体小推车。槽体总大小根据设备后部空间、背面喷砂机台数量、回收砂子清理周期等有关，若一台喷砂机，场地够用，1至2个月左右清理沉淀槽一次的话，槽体总大小可设计为1.5m长、0.7m宽、0.6m高左右即可。不锈钢槽体壁厚和隔断溢流板壁厚均采用5mm左右厚的304不锈钢即可。为了增加隔断溢流板溢流效果，可将隔断溢流板上方做成锯齿状。横向支撑杆和纵向支撑杆的数量、尺寸可根据槽体大小而定，结实耐用即可。进水口上下位置要比隔断溢流板稍高，出水口上下位置比隔断溢流板稍低，左右位置居中即可，进水口和出水口直径参照背面喷砂设备排水口直径。

有益效果：本实用新型可以放置在喷砂设备后边合适位置，将喷砂设备排液口通过管道接在进水口上，出水口通过管道连接在下水管道上。这样，当喷砂设备带有砂子的砂液源源不断的流入回收装置时，先后经过一级、二级和三级沉淀后，剩余几乎不带砂子的水会通过回收装置出水口排至下水管道。通过本回收装置，可以回收90%以上的砂子，大大降低生产成本，而且还避免直接排至下水管道从而造成管道堵塞、环保等问题，具有结构简单、环保节能、使用方便、安全可靠等的优点。此外，其它回收价值高、易沉淀的类似砂液设备均可采用此回收装置进行回收。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的侧视图；

附图标记：1、万向脚轮，2、横向支撑杆，3、纵向支撑杆，4、出水口，5、推车把手，6、不锈钢槽体，601、一级沉淀槽，602、二级沉淀槽，603、三级沉淀槽，7、不锈钢隔断溢流板，8、进水口。

具体实施方式

如图所示，一种硅晶片背面湿法喷砂用砂子回收装置，包括由横向支撑杆2和纵向支撑杆3支撑加固的不锈钢槽体6，两种支撑杆的数量根据实际需要进行设置，不锈钢槽体6的底部设置有万向脚轮1，上部设置有推车把手5，在不锈钢槽体6长度方向的两端分别设置有与下水管道连接的出水口4和与喷砂设备排液口连接的进水口8，不锈钢槽体6的内部设置有两块不锈钢隔断溢流板7，两块不锈钢隔断溢流板7将不锈钢槽体6的内部空间依次分隔成一级沉淀槽601、二级沉淀槽602和三级沉淀槽603，且一级沉淀槽601靠近进水口8，三级沉淀槽603靠近出水口4。

以上为本实用新型的基本实施方式，可在以上基础上做进一步的限定和改进：