[实用新型]一种硅片清洗周转盒有效

专利信息
申请号: 201520483580.4 申请日: 2015-07-02
公开(公告)号: CN204735519U 公开(公告)日: 2015-11-04
发明(设计)人: 孙显强 申请(专利权)人: 温州市赛拉弗能源有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00;H02S40/10
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 325011 浙江省温*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 周转
【权利要求书】:

1.一种硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,包括:

若干个清洗框(1);

若干个靠板(4),所述靠板(4)倾斜设置在清洗框(1)内;

若干个弹性支架(5),所述弹性支架(5)固定设置在靠板(4)的一端,所述弹性支架(5)具有弹性底板(51)和一对底板固定块(52),一对底板固定块(52)分别固定在弹性底板(51)的两端;

若干个底板支架组合(6),所述底板支架组合(6)固定设置在清洗框(1)内,且抵挡在一对底板固定块(52)上。

2.根据权利要求1所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,所述底板支架组合(6)包括本体、支架腿一(61)和支架腿二(62),所述支架腿一(61)连接在本体的中部,且一端延伸至清洗框(1)的内底,所述支架腿二(62)连接在本体的一端,且另一端延伸至清洗框(1)的内底。

3.根据权利要求2所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,所述底板支架组合(6)还包括支架面一(63)、支架面二(64)和支架面三(65),所述支架面一(63)位于本体的一侧,且抵挡在一个底板固定块(52)上,所述支架面二(64)位于本体的一侧,且抵挡在另一个底板固定块(52)上,所述支架面三(65)位于位于本体的一侧,且抵挡在靠板(4)的一端。

4.根据权利要求3所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,所述底板支架组合(6)还包括支架连接面(66),所述支架连接面(66)位于本体的另一端,且抵挡在靠板(4)的外侧面。

5.根据权利要求1所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,还包括若干个靠板支架(7),所述靠板支架(7)的一端延伸至清洗框(1)的内底,另一端抵挡在靠板(4)的外侧面。

6.根据权利要求3所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,所述两个底板固定块(52)上均设有凸缘,所述凸缘抵挡在本体的一侧。

7.根据权利要求6所述的硅片(2)清洗周转盒,其特征在于,所述凸缘的横截面呈弧形。

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