[实用新型]一种四轴射流抛光机有效
申请号: | 201520486132.X | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN204935401U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 徐学锋;张玉;张羽 | 申请(专利权)人: | 北京林业大学 |
主分类号: | B24C3/02 | 分类号: | B24C3/02;B24C7/00;B24C9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射流 抛光机 | ||
1.一种四轴射流抛光机,其特征在于:包括溶液存储罐(1)、隔膜泵(3)、管路(7)、喷嘴缓冲管(11)、喷嘴(12)和收集箱(15);
所述溶液存储罐(1)内盛放射流溶液,收集箱(15)设置在溶液存储罐(1)上方;工件(14)设置在收集箱(15)内,并与收集箱(15)的入口位置相对应,所述收集箱(15)的出口与溶液存储罐(1)连通;所述隔膜泵(3)也与溶液存储罐(1)连通,并连接管路(7)的一端;所述管路(7)的另一端连接喷嘴缓冲管(11),喷嘴缓冲管(11)的端部设置有喷嘴(12),喷嘴(12)位于收集箱(15)的入口上方;
所述收集箱(15)能够实现X轴方向运动,喷嘴缓冲管(11)能够实现Y轴和Z轴方向以及旋转运动。
2.根据权利要求1所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述收集箱(15)安装在X轴平台(16)上,Z轴平台(8)和Y轴平台(9)垂直设置,T轴旋转平台(10)安装在Z轴平台(8)上,喷嘴缓冲管(11)安装在T轴旋转平台(10)上。
3.根据权利要求1或2所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述溶液存储罐(1)与管路(7)之间设置有安全阀(4),用于对管路(7)进行泄压。
4.根据权利要求3所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述管路(7)上还设置有缓冲罐(5)和压力表(6),所述缓冲罐(5)用于减小管路(7)的脉冲,所述压力表(6)用于显示管路(7)的压力。
5.根据权利要求2所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述X轴平台(16)、Z轴平台(8)和Y轴平台(9)通过控制器(17)进行控制,所述控制器(17)与计算机(19)连接,通过计算机(19)能够同时控制X、Y、Z三个方向的运动。
6.根据权利要求1或5所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述溶液存储罐(1)内还设置有搅拌器(2),用于对溶液存储罐(1)内的溶液进行搅拌。
7.根据权利要求6所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述收集箱(15)为矩形透明盒PVC,其包括箱体和顶盖,顶盖安装在箱体顶部;箱体内侧底部设置有安装工件(14)的固定台(15c),箱体侧面底端对称加工有通孔作为出口(15b),顶盖中部加工有通孔作为入口(15a)。
8.根据权利要求2或7所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述喷嘴缓冲管(11)为直管,并通过夹持块安装在T轴旋转平台(10)上;所述夹持块通过底板(21)安装在T轴旋转平台(10)上,底板(21)上形成用于安装喷嘴缓冲管(11)的套筒(22),套筒(22)的圆周面上形成开口,开口的外缘向外延伸形成两个定位块(23),两个定位块(23)之间通过螺钉固定。
9.根据权利要求5所述的四轴射流抛光机,其特征在于:采用机架(18)作为安装载体,其内侧采用三层分布即上层、中层和下层,上层设置有X轴平台(16)、Z轴平台(8)和Y轴平台(9)以及收集箱(15),中层设置有控制器(17),下层设置有搅拌器(2)和溶液存储罐(1);所述隔膜泵(3)和计算机(19)置于机架(18)外侧。
10.根据权利要求1或9所述的四轴射流抛光机,其特征在于:所述工件(14)通过工件夹(13)固定在收集箱(15)内的固定台(15c)上。
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