[实用新型]一种四轴射流抛光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光机技术领域，更具体的说，特别涉及一种四轴射流抛光机。

背景技术

随着现代光学、电子学、薄膜科学及航空航天等科学的飞速发展，光学元件及功能元件的形状越来越复杂，表面质量的要求也越来越苛刻，超光滑表面的应用也越来越高。超光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求极高以外，还要求表面有完好的晶格结构、无缺陷，能消除加工损伤层。1998年，荷兰Delft大学的首先利用了FJP技术，并将其用在了光学元件的表面抛光上并获得了1.6nm的表面粗糙度，显示出FJP的超光滑表面加工能力。此后，越来越多的科学家投入到FJP技术的研究中。和Booij通过研究发现FJP技术的去除原理主要依靠粒子对元件的冲击实现材料的去除，冲击粒子通过碰撞磨削作用以塑性方式去除工件表面材料。射流抛光机的应用也越来越广泛，但现有的射流抛光机一般成本较高、加工精度差且控制复杂。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术存在的技术问题，提供一种四轴射流抛光机，整体结构简单、成本低、喷射流稳定且去除效果好。

为了解决以上提出的问题，本实用新型采用的技术方案为：

一种四轴射流抛光机，包括溶液存储罐、隔膜泵、管路、喷嘴缓冲管、喷嘴和收集箱；

所述溶液存储罐内盛放射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收集箱的出口与溶液存储罐连通；所述隔膜泵也与溶液存储罐连通，并连接管路的一端；所述管路的另一端连接喷嘴缓冲管，喷嘴缓冲管的端部设置有喷嘴，喷嘴位于收集箱的入口上方；

所述收集箱能够实现X轴方向运动，喷嘴缓冲管能够实现Y轴和Z轴方向以及旋转运动。

所述收集箱安装在X轴平台上，Z轴平台和Y轴平台垂直设置，T轴旋转平台安装在Z轴平台上，喷嘴缓冲管安装在T轴旋转平台上。

所述溶液存储罐与管路之间设置有安全阀，用于对管路进行泄压。

所述管路上还设置有缓冲罐和压力表，所述缓冲罐用于减小管路的脉冲，所述压力表用于显示管路的压力。

所述X轴平台、Z轴平台和Y轴平台通过控制器进行控制，所述控制器与计算机连接，通过计算机能够同时控制X、Y、Z三个方向的运动。

所述溶液存储罐内还设置有搅拌器，用于对溶液存储罐内的溶液进行搅拌。

所述收集箱为矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；箱体内侧底部设置有安装工件的固定台，箱体侧面底端对称加工有通孔作为出口，顶盖中部加工有通孔作为入口。

所述喷嘴缓冲管为直管，并通过夹持块安装在T轴旋转平台上；所述夹持块通过底板安装在T轴旋转平台上，底板上形成用于安装喷嘴缓冲管的套筒，套筒的圆周面上形成开口，开口的外缘向外延伸形成两个定位块，两个定位块之间通过螺钉固定。

采用机架作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有X轴平台、Z轴平台和Y轴平台以及收集箱，中层设置有控制器，下层设置有搅拌器和溶液存储罐；所述隔膜泵和计算机置于机架外侧。

所述工件通过工件夹固定在收集箱内的固定台上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型中通过隔膜泵将射流溶液吸入管路内，并通过喷嘴缓冲管缓冲后经过喷嘴作用在工件上，工件设置在收集箱内，方便安装，收集箱将加工后的溶液重新输入到溶液存储罐内，可以循环利用，整个抛光机能够实现四个方向的运动，方便调节喷嘴与工件之间的位置关系，整体结构简单、成本低、喷射流稳定且去除效果好。

附图说明

图1为本实用新型四轴射流抛光机的结构示意图。

图2为本实用新型收集箱的整体结构示意图。

图3为本实用新型收集箱的局部结构示意图。

图4为本实用新型夹持块的结构示意图。

附图标记说明：1-溶液存储罐、2-搅拌器、3-隔膜泵、4-安全阀、5-缓冲罐、6-压力表、7-管路、8-Z轴平台、9-Y轴平台、10-T轴旋转平台、11-喷嘴缓冲管、12-喷嘴、13-工件夹、14-工件、15-收集箱、15a-入口、15b-出口、15c-固定台、16-X轴平台、17-控制器、18-机架、19-计算机、21-底板、22-套筒、23-定位块

具体实施方式