[实用新型]CVI沉积碳连续生长炉有效
申请号: | 201520506848.1 | 申请日: | 2015-07-14 |
公开(公告)号: | CN204779796U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 李丙科;钱锋;姚飞;孙丁群;宋银海 | 申请(专利权)人: | 东莞帕萨电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26 |
代理公司: | 广东莞信律师事务所 44332 | 代理人: | 曾秋梅 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cvi 沉积 连续 生长 | ||
1.CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:包括加热炉体、真空系统、进料真空腔室、出料真空腔室、导向机构、牵引机构、燃烧器和反应腔室,所述反应腔室置于所述加热炉体内,所述导向机构置于所述进料真空腔室内,所述牵引机构设置于所述出料真空腔室内,所述进料真空腔室、所述反应腔室和所述出料真空腔室均与所述真空系统连接,所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均与所述反应腔室连接,所述燃烧器与所述反应腔室连通。
2.根据权利要求1所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均连接有真空计,所述反应腔室连接有进气管道,所述进气管道上设置有进气阀。
3.根据权利要求1所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述真空系统包括真空管道、真空阀门和真空泵,所述进料真空腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接,所述反应腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接,所述出料真空腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接,所述真空阀门设置于所述真空管道上。
4.根据权利要求3所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述真空管道上还设置有压力调节阀、压力开关和压力传感器。
5.根据权利要求1所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述进料真空腔室包括第一腔壁和第一上盖板,所述第一上盖板通过第一铰链与所述第一腔壁连接,所述出料真空腔室包括第二腔壁和第二上盖板,所述第二上盖板通过第二铰链与所述第二腔壁连接。
6.根据权利要求1或5所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述进料真空腔室内还设置有第一固定轴,所述出料真空腔室内还设置有第二固定轴,所述牵引机构包括驱动装置和牵引轮,所述驱动装置的输出轴与所述第二固定轴连接,并且所述驱动装置的输出轴上还设置有磁流体,所述导向机构包括导向轮,所述导向轮设置于所述第一固定轴和所述牵引轮之间,所述牵引轮设置于所述导向轮和所述第二固定轴之间。
7.根据权利要求1所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述加热炉体包括外壳层、保温层、内壳层和加热丝,所述保温层位于所述外壳层和所述内壳层之间,所述加热丝设置于所述内壳层内。
8.根据权利要求1所述的CVI沉积碳连续生长炉,其特征在于:所述进料真空腔室通过第一法兰盘与所述反应腔室连接,所述第一法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈,所述第一法兰盘上设置有水冷通道;所述出料真空腔室通过第二法兰盘与所述反应腔室连接,所述第二法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈,所述第二法兰盘上设置有水冷通道。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的