[实用新型]CVI沉积碳连续生长炉

说明书

技术领域

本实用新型属于生长炉技术领域，尤其涉及一种CVI沉积碳连续生长炉。

背景技术

CVI（化学气相渗透ChemicalVaporInfiltration）沉积碳连续生长炉是用于在碳纤维或其它纤维上连续沉积碳的设备。目前，CVI沉积碳连续生长炉一般是在高于大气压下，在碳纤维或其它纤维上沉积碳，这就导致沉积的碳致密性差、均匀性不好，连续性也较差，而且需要较多的气体。

此外，现有技术中，需要先人工将碳纤维或其它纤维绕在工装上，再将整个工装放到生长炉内，这就导致碳纤维等容易断裂，而且费时，费力。

有鉴于此，确有必要提供一种CVI沉积碳连续生长炉，其在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种CVI沉积碳连续生长炉，其在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

CVI沉积碳连续生长炉，包括加热炉体、真空系统、进料真空腔室、出料真空腔室、导向机构、牵引机构、燃烧器和反应腔室，所述反应腔室置于所述加热炉体内，所述导向机构置于所述进料真空腔室内，所述牵引机构设置于所述出料真空腔室内，所述进料真空腔室、所述反应腔室和所述出料真空腔室均与所述真空系统连接，所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均与所述反应腔室连接，所述燃烧器与所述反应腔室连通。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室和所述出料真空腔室均连接有真空计，所述反应腔室连接有进气管道，所述进气管道上设置有进气阀。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述真空系统包括真空管道、真空阀门和真空泵，所述进料真空腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接，所述反应腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接，所述出料真空腔室通过所述真空管道与所述真空泵连接，所述真空阀门设置于所述真空管道上。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述真空管道上还设置有压力调节阀、压力开关和压力传感器。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室包括第一腔壁和第一上盖板，所述第一上盖板通过第一铰链与所述第一腔壁连接，所述出料真空腔室包括第二腔壁和第二上盖板，所述第二上盖板通过第二铰链与所述第二腔壁连接。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室内还设置有第一固定轴，所述出料真空腔室内还设置有第二固定轴，所述牵引机构包括驱动装置和牵引轮，所述驱动装置的输出轴与所述第二固定轴连接，并且所述驱动装置的输出轴上还设置有磁流体，所述导向机构包括导向轮，所述导向轮设置于所述第一固定轴和所述牵引轮之间，所述牵引轮设置于所述导向轮和所述第二固定轴之间。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述加热炉体包括外壳层、保温层、内壳层和加热丝，所述保温层位于所述外壳层和所述内壳层之间，所述加热丝设置于所述内壳层内。

作为本实用新型CVI沉积碳连续生长炉的一种改进，所述进料真空腔室通过第一法兰盘与所述反应腔室连接，所述第一法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈，所述第一法兰盘上设置有水冷通道，用于保护密封圈；所述出料真空腔室通过第二法兰盘与所述反应腔室连接，所述第二法兰盘和所述反应腔室之间设置有密封圈，所述第二法兰盘上设置有水冷通道，用于保护密封圈。

使用时，碳纤维通过所述导向机构从进料真空腔室进入反应腔室，经过反应腔室后连接到出料真空腔室的牵引机构上，关闭进料真空腔室、出料真空腔室盖板，通电加热炉体，将反应腔室加热到设定温度，然后打开真空阀门、真空泵，将进料真空腔室、反应腔室、出料真空腔室抽到设定真空值，然后打开进气阀向反应腔室内通入工艺气体，通过压力调节阀将反应腔室的压力控制在设定的压力值内，开启牵引机构，使碳纤维按照设计的速度连续通过反应腔室，碳纤维在经过反应腔室过程中，在其表面沉积所需的涂层。

相对于现有技术，本实用新型在真空状态下进行碳沉积，形成的碳沉积层致密性好、均匀性好，而且连续性佳，效率高，需要的气体量少。而且导向机构和牵引机构的设置可以大大提高碳沉积的效率。

附图说明

图1为本实用新型的剖视结构示意图。

图2为本实用新型的俯视结构示意图。

图3为本实用新型的左视结构示意图。

其中：