[实用新型]一种真空灭弧室的屏蔽筒固定结构有效

专利信息
申请号: 201520532827.7 申请日: 2015-07-22
公开(公告)号: CN204792597U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 曾才华;陈金枢 申请(专利权)人: 浙江瑞光真空电气有限公司
主分类号: H01H33/662 分类号: H01H33/662
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 324022 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室 屏蔽 固定 结构
【权利要求书】:

1.一种真空灭弧室的屏蔽筒固定结构,包括瓷壳和位于瓷壳中的屏蔽筒,其特征在于:所述瓷壳的内壁上设有凸台,屏蔽筒通过固定环固定在凸台上;所述凸台的上端面与瓷壳内壁垂直,凸台的下端面为斜面并与瓷壳内壁呈45°角度,凸台的外凸端面与瓷壳内壁平行;所述屏蔽筒外壁上与凸台的下端面对应的位置处设有向内凹的卡槽;用于固定屏蔽筒的固定环呈类似“S”形,固定环上下两端分别设有上端头和下弹性爪,上端头卡在凸台的上端面上并与凸台的上端面紧贴,下弹性爪卡在屏蔽筒的卡槽内,固定环中间设有定位凸起,该定位凸起的凹面与凸台的外凸端面紧贴,在屏蔽筒的卡槽上方设有与定位凸起的凸面对应的定位凹槽。

2.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室的屏蔽筒固定结构,其特征在于:所述固定环成对采用且为两片以上。

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