[实用新型]一种真空灭弧室的屏蔽筒固定结构有效
申请号: | 201520532827.7 | 申请日: | 2015-07-22 |
公开(公告)号: | CN204792597U | 公开(公告)日: | 2015-11-18 |
发明(设计)人: | 曾才华;陈金枢 | 申请(专利权)人: | 浙江瑞光真空电气有限公司 |
主分类号: | H01H33/662 | 分类号: | H01H33/662 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 324022 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 灭弧室 屏蔽 固定 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种真空灭弧室的屏蔽筒固定结构,属于真空开关技术领域。
背景技术
现有的断路器用真空灭弧室屏蔽筒的定位一般采用将屏蔽筒的一端与瓷壳用钎焊的方式进行焊接,另一端与固定环焊接的结构,通过两端焊接的方式把屏蔽筒固定在瓷壳内。这种结构需要将瓷壳在与屏蔽筒焊接的位置上进行金属化,焊接时需要用价格较贵的银基钎料,成本较高,同时钎焊时蒸散的液态钎料会影响到真空灭弧室的绝缘性能。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种节省材料、装配简单、对真空灭弧室的绝缘性能没有影响的真空灭弧室屏蔽筒固定结构,从而克服上述现有技术的不足。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案如下:真空灭弧室的屏蔽筒固定结构,包括瓷壳和位于瓷壳中的屏蔽筒,其中:瓷壳的内壁上设有凸台,屏蔽筒通过固定环固定在凸台上;凸台的上端面与瓷壳内壁垂直,凸台的下端面为斜面并与瓷壳内壁呈45°角度,凸台的外凸端面与瓷壳内壁平行;屏蔽筒外壁上与凸台下端面对应的位置处设有向内凹的卡槽;用于固定屏蔽筒的固定环呈类似“S”形,固定环上下两端分别设有上端头和下弹性爪,上端头卡在凸台的上端面上并与凸台的上端面紧贴,下弹性爪卡在屏蔽筒的卡槽内,固定环中间设有定位凸起,该定位凸起的凹面与凸台的外凸端面紧贴,在屏蔽筒的卡槽上方设有与定位凸起的凸面对应的定位凹槽。
优选的,在前述的真空灭弧室的屏蔽筒固定结构中,固定环成对采用且为两片以上。
本实用新型的有益效果是:本实用新型通过固定环实现屏蔽筒与瓷壳的固定,不采用传统的焊接方式,工艺更加简单,降低了制造成本。屏蔽筒在推进到瓷壳时,利用固定环将屏蔽筒卡住,即固定环的上端头卡在凸台的上端面上并与凸台的上端面紧贴,下弹性爪卡在屏蔽筒的卡槽内。本实用新型同现有技术相比,结构简单,制造成本低,由于不需焊接从而节约了贵重金属材料,且避免了液态钎料的蒸散对真空灭弧室绝缘性能的不利影响。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型中的技术方案,下面对本实用新型实施例中所使用的附图做简单介绍。
图1为现有的真空灭弧室屏蔽筒固定结构的结构示意图;
图2为A部放大图;
图3为本实用新型实施例的结构示意图;
图4为B部放大图;
图5为本实用新型实施例中固定环的结构示意图。
附图标记说明:
0-焊接面、1-瓷壳、2-屏蔽筒、3-固定环、4-凸台、5-卡槽、6-上端头、7-下弹性爪、8-定位凸起、9-定位凹槽。
具体实施方式
为了进一步理解本实用新型,下面结合附图对本实用新型的技术方案作进一步的说明。
如图1、图2所示,现有的这种真空灭弧室屏蔽筒结构瓷壳需要在瓷壳1与屏蔽筒2的焊接面0上进行金属化,而焊接时需要用价格较贵的银基钎料,成本较高。
如图3、图4、图5所示,本实用新型实施例的真空灭弧室的屏蔽筒固定结构,包括瓷壳1和位于瓷壳中的屏蔽筒2,在瓷壳1的内壁上制作出凸台4,屏蔽筒2通过固定环3固定在凸台4上;使用时,可根据需求采用成对的固定环3均匀地卡在凸台4上,以达到稳定的效果。
其中,设置在瓷壳1的内壁上的凸台4的上端面与瓷壳1内壁垂直,凸台4的下端面为斜面并与瓷壳1内壁呈45°角度,凸台4的外凸端面与瓷壳1内壁平行;屏蔽筒2外壁上与凸台的下端面对应位置处设有向内凹的卡槽5;用于固定屏蔽筒2的固定环3呈类似“S”形,固定环3上下两端分别设有上端头6和下弹性爪7,上端头6卡在凸台的上端面上并与凸台的上端面紧贴,下弹性爪7卡在屏蔽筒2的卡槽5内,固定环3中间的凸起为定位凸起8,在屏蔽筒2的卡槽5上方设有与定位凸起8的凸面对应的定位凹槽9,固定环3固定屏蔽筒2时,定位凸起8的凹面与凸台4的外凸端面紧贴,该定位凸起8的凸面紧贴着在定位凹槽9。
使用时,先将固定环3压装在凸台4上,然后将屏蔽筒2压装到固定环3内,固定环3的下弹性爪7在力作用下弹性变形,使定位凸起8的凸面紧贴在定位凹槽9内,下弹性爪7卡在卡槽5内。
应当指出,上述描述了本实用新型的实施例。然而,本领域技术的技术人员应该理解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型范围的前提下本实用新型还会有多种变化和改进,这些变化和改进都属于本实用新型的保护范围。
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