[实用新型]一种真空灭弧室有效

专利信息
申请号: 201520543285.3 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN204966380U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 孔国威;魏杰;张纯军 申请(专利权)人: 北京双杰电气股份有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵囡囡;吴贵明
地址: 100085 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室
【权利要求书】:

1.一种真空灭弧室,其特征在于,包括:

外壳;

静端部(20),所述静端部(20)包括静端连接盘(21)、第一静触头(22)和第二静触头(23),所述静端连接盘(21)与所述外壳连接以形成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室,所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)分别位于所述静端连接盘(21)的两侧,所述第一静触头(22)位于所述第一灭弧腔室内,所述第二静触头(23)位于所述第二灭弧腔室内,且所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)电连接,其中,所述第一静触头(22)采用CuW材料,所述第二静触头(23)采用CuCr材料;

第一动端部(30),所述第一动端部(30)包括第一动触头(31),所述第一动触头(31)位于所述第一灭弧腔室内,所述第一动触头(31)具有与所述第一静触头(22)闭合时的合闸位置以及与所述第一静触头(22)分离时的分闸位置,其中,所述第一动触头采用CuW材料;

第二动端部(40),所述第二动端部(40)包括第二动触头(41),所述第二动触头(41)位于所述第二灭弧腔室内,所述第二动触头(41)具有与所述第二静触头(23)闭合时的合闸位置以及与所述第二静触头(23)分离时的分闸位置,其中,所述第二动触头(41)采用CuCr材料。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于,所述外壳包括上端盖(11)、壳体本体(12)和下端盖(13),所述上端盖(11)盖设在所述壳体本体(12)的一端,所述上端盖(11)、所述壳体本体(12)及所述静端连接盘(21)之间形成所述第一灭弧腔室,所述下端盖(13)盖设在所述壳体本体(12)的另一端,所述下端盖(13)、所述壳体本体(12)及所述静端连接盘(21)之间形成所述第二灭弧腔室。

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室,其特征在于,所述真空灭弧室还包括:

第一屏蔽罩(51),所述第一屏蔽罩(51)位于所述第一灭弧腔室内,所述第一屏蔽罩(51)的第一端连接在所述上端盖(11)的内侧,当所述第一动触头(31)处于所述分闸位置时,所述第一动触头(31)位于所述第一屏蔽罩(51)内;

第二屏蔽罩(52),所述第二屏蔽罩(52)位于所述第一灭弧腔室内,所述第二屏蔽罩(52)的第一端连接在所述静端连接盘(21)上,所述第二屏蔽罩(52)围绕所述第一静触头(22),所述第二屏蔽罩(52)的第二端与所述第一屏蔽罩(51)的第二端相对设置,且所述第二屏蔽罩(52)的第二端与所述第一屏蔽罩(51)的第二端之间具有间隙以形成固定断口。

4.根据权利要求3所述的真空灭弧室,其特征在于,所述真空灭弧室还包括第三屏蔽罩(53),所述第三屏蔽罩(53)的端部连接在所述上端盖(11)的内侧,且所述第三屏蔽罩(53)延伸至所述壳体本体(12)与所述第一屏蔽罩(51)之间。

5.根据权利要求2所述的真空灭弧室,其特征在于,所述真空灭弧室还包括第四屏蔽罩(54),所述第四屏蔽罩(54)位于所述第二灭弧腔室内,所述第四屏蔽罩(54)焊接在所述壳体本体(12)的内侧,所述第二静触头(23)与所述第二动触头(41)均位于所述第四屏蔽罩(54)内。

6.根据权利要求5所述的真空灭弧室,其特征在于,所述真空灭弧室还包括第五屏蔽罩(55),所述第五屏蔽罩(55)的第一端连接在所述下端盖(13)的内侧,所述第五屏蔽罩(55)的第二端延伸至所述壳体本体(12)与所述第二动端部(40)之间。

7.根据权利要求2所述的真空灭弧室,其特征在于,

所述第一动端部(30)还包括第一动导电杆(32),所述第一动导电杆(32)的第一端穿过所述上端盖(11),所述第一动触头(31)连接在所述第一动导电杆(32)的第二端;

所述第二动端部(40)还包括第二动导电杆(42),所述第二动导电杆(42)的第一端穿过所述下端盖(13),且所述第二动导电杆(42)的第一端的延伸方向与所述第一动导电杆(32)的第一端的延伸方向相互远离,所述第二动触头(41)连接在所述第二动导电杆(42)的第二端。

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