[实用新型]用于等离子体增强化学气相沉积的设备

权利要求书

1.一种用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，包括：

炉体，所述炉体内限定出容纳腔室；

加热装置，所述加热装置设在所述炉体的侧壁上；

沉积单元，所述沉积单元位于所述容纳腔室中，所述沉积单元顶部具有气体入口，所述沉积单元内限定出沉积腔室，所述沉积腔室包括多个彼此隔开的子沉积腔室，每一个所述子沉积腔室中具有两个平行间隔设置的玻璃基板，其中，所述玻璃基板中的一个与电极相连，所述玻璃基板中的另一个接地；以及

气体管道，所述气体管道穿过所述炉体与所述气体入口相连，所述气体管道包括位于所述容纳腔室外的第一管段和位于所述容纳腔室内的第二管段，所述第一管段和/或第二管段上具有预热组件。

2.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述第一管段上具有第一预热组件，所述第一预热组件为电阻丝加热器，所述电阻丝加热器缠绕在所述第一管段上。

3.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述第二管段上具有第二预热组件，所述第二预热组件为电阻丝加热器，所述电阻丝加热器缠绕在所述第二管段上。

4.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述第一管段上具有第一预热组件，所述第二管段上具有第二预热组件，所述第一预热组件和第二预热组件均为电阻丝加热器，并且所述电阻丝加热器分别独立地缠绕在所述第一管段和第二管段上。

5.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述第二管段上具有第二预热组件，所述第二预热组件为沿水平反向延伸的U型管。

6.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述第一管段上具有第一预热组件，所述第二管段上具有第二预热组件，所述第一预热组件为电阻丝加热器，所述电阻丝加热器缠绕在所述第一管段上，所述第二管段为沿水平反向延伸的U型管。

7.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述加热装置为电阻丝加热器。

8.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备，其特征在于，所述玻璃基板通过卡槽设置在所述子沉积腔室内。