[实用新型]显影蚀刻机台

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种印刷电路板制作工艺机台，且特别是有关于一种显影蚀刻机台。

背景技术

传统的显影蚀刻去模线机台(DES设备)是以聚丙烯(Polypropylene，PP)或聚氯乙烯(PolyVinylChloride，PVC)等材质来制作内壳体与外壳体，并采用钢化玻璃或透明聚氯乙烯等材质来制作内壳体与外壳体的视窗。现行的显影蚀刻去模线机台在长期高温使用下会有机构变形的状况，而使得原本在内壳体内的蚀刻药液会以气体或液体的形式渗出来，渗出的蚀刻药液会析出结晶而影响机台外观。

现在的显影蚀刻去模线机台虽有侧窗清洗功能，但清洗侧窗之后的废水为高化学需氧量系，增加后期废水回收处理费用，也不利于蚀刻药液回收再利用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种显影蚀刻机台，其不易渗漏出药液。

为达上述目的，本实用新型的一种显影蚀刻机台，包括一外壳体、一内壳体及一摇摆座。外壳体包括可开合的一外侧窗。内壳体配置于外壳体内且包括一内底面、一内壁面及一透明盖板，其中内壁面连接于内底面且朝向内底面倾斜，内壁面包括一开口，开口对应于外侧窗，透明盖板可拆卸地覆盖在开口上。摇摆座位于内壳体内。

在本实用新型的一实施例中，上述的内壁面与内底面之间的夹角在70度至85度之间。

在本实用新型的一实施例中，上述的内壁面的开口的底部与内底面之间的距离约在1厘米至5厘米之间。

在本实用新型的一实施例中，上述的显影蚀刻机台还包括一导流件，配置于内壳体的内壁面与内底面之间的夹角，且导流件具有朝向摇摆座的一斜面。

在本实用新型的一实施例中，上述的导流件延伸至内壁面的开口的底部且接触或接近于透明盖板。

在本实用新型的一实施例中，上述的导流件的斜面与内壳体的内底面之间的夹角大于90度。

在本实用新型的一实施例中，上述的内壳体还包括一密封件，配置于内壁面的开口周围以及透明盖板之间。

在本实用新型的一实施例中，上述的透明盖板包括一沟槽，密封件配置于沟槽内且凸出于透明盖板。

在本实用新型的一实施例中，上述的密封件为一环形胶条。

在本实用新型的一实施例中，上述的内壳体还包括多个固定件，这些固定件穿设于该透明盖板与至少部分的该内壁面，以使透明盖板靠紧于内壁面。

本实用新型的优点在于，由于现有的显影蚀刻机台的内壳体的内壁面是直立配置且无额外的密封设计，位于内壳体内部的药液喷溅到内壳体的侧窗后较容易会渗出而在外面结晶。本实用新型的显影蚀刻机台的内壳体的内壁面是朝向内底面倾斜的设计，喷溅到内壳体的内壁面的药液顺着内壁面向下流之后不易流出内壳体。此外，密封件配置在内壳体的内壁面与透明盖板之间，通过穿设于该透明盖板与至少部分的该内壁面的固定件来使透明盖板靠紧于内壁面，而使内壳体密封。另外，本实用新型的显影蚀刻机台具有配置于内壳体的内壁面与内底面之间的夹角的导流件，导流件延伸至内壁面的开口的底部并接触或接近于透明盖板且具有朝向摇摆座的一斜面，因此，若药液喷溅到透明盖板上之后，顺着透明盖板下滑会流到导流件的斜面上，再沿着导流件的斜面流到内壳体的内底面上，而不会流出于内壳体，有效地避免药液渗漏。

为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。

附图说明

图1为实用新型的一实施例的一种显影蚀刻机台的局部剖面示意图。

符号说明

100：显影蚀刻机台

110：外壳体

112：外侧窗

120：内壳体

121：内壁面

122：开口

123：内底面

124：透明盖板

125：沟槽

126：密封件

127：固定件

130：摇摆座

140：导流件

142：斜面

具体实施方式

图1是依照本实用新型的一实施例的一种显影蚀刻机台的局部剖面示意图。请参阅图1，本实施例的显影蚀刻机台100包括一外壳体110、一内壳体120及一摇摆座130。外壳体110包括可开合的一外侧窗112。外侧窗112呈透明。内壳体120配置于外壳体110内而呈现出两层壳体的结构。摇摆座130位于内壳体120内。