[实用新型]熔石英亚表层微缺陷探测装置有效
申请号: | 201520629413.6 | 申请日: | 2015-08-20 |
公开(公告)号: | CN204855406U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 刘红婕;蒋晓东;黄进;王凤蕊;孙来喜;耿峰;叶鑫;李青芝 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/64 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石英 表层 缺陷 探测 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及光学器件领域,具体而言,涉及一种熔石英亚表层微缺陷探测装置。
背景技术
在熔石英元件负载能力提升体系中,需要开展大量元件损伤性能评估工作。文献表明,熔石英光学元件亚表层微缺陷是引发激光损伤的根本原因,因此通过对熔石英亚表层微缺陷的精细探测与表征,同样可以评价光学元件的损伤性能。之前,常用的熔石英元件亚表层微缺陷探测的方式如,角度抛光法、化学腐蚀法、截面显微法等,都是通过一层一层的去除表面层,再利用光学显微镜进行探测而获得亚表面层微缺陷,这些方式一方面会影响熔石英亚表面微缺陷本身特性,另外并不是无损测试,会破坏熔石英光学元件,而这些元件大都价值不菲,这种方法对于控制科研及运行成本显然非常不利。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种熔石英亚表层微缺陷探测装置,以改善现有技术中评判元件质量、加工及预处理工艺的好坏,都是通过直接对元件进行损伤测试,而导致熔石英元件易损坏的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种熔石英亚表层微缺陷探测装置,用于评测放置于样品台上样品的激光损伤性能,包括激光器、成像系统、电子倍增电荷耦合元件、显示器,所述电子倍增电荷耦合元件和所述成像系统设置于同一直线,当该熔石英亚表层微缺陷探测装置工作时,所述激光器发出的激光直接照射至所述样品台上的样品,样品的亚表层微缺陷发出能使所述电子倍增电荷耦合元件采集的荧光,所述电子倍增电荷耦合元件与所述显示器电连接。
当该熔石英亚表层微缺陷探测装置工作时,激光器发出的激光直接照射至所述样品台上的样品,样品的亚表层微缺陷中的电子吸收光子能量跃迁到上能级态,处于上能级态的电子不稳定,经过辐射跃迁发出光子,即荧光,样品发出的荧光经成像系统传输到电子倍增电荷耦合元件,电子倍增电荷耦合元件接收到样品发出的荧光图像,将图像传送给显示器显示,这样,使用者便收集到来自显示器的样品的亚表层微缺陷的荧光图像,对样品的亚表层微缺陷做出判断。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,还包括所述样品台,所述样品台、所述电子倍增电荷耦合元件和所述成像系统位于同一直线,所述成像系统位于所述样品台和所述电子倍增电荷耦合元件之间。该熔石英亚表层微缺陷探测装置包括了样品台后,放置样品更加方便。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,所述成像系统包括物镜和目镜,所述物镜设置在靠近样品台的一端,所述目镜设置在靠近所述电子倍增电荷耦合元件的一端,所述物镜和所述目镜位于同一直线。物镜和目镜组是成像系统的主要部分,物镜和目镜的组合结构,能够将样品待测区域的图像清晰的放大,以满足测量要求。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,所述成像系统还包括用于吸收所述激光器的散射光的吸收滤色镜,所述吸收滤色镜设置于所述镜物镜与所述目镜之间。吸收滤色镜能够降低激发光源的散射光影响。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,还包括用于直接照射样品的白光光源。白光光源照射到样品,电子倍增电荷耦合元件能够拍摄到样品表面的明场图像,用于和上述荧光图像对照,分析熔石英亚表层微缺陷。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,所述激光器为紫外激光器。为了针对熔石英亚表层微缺陷的特定的激发波长,选用紫外激光器。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,所述紫外激光器到样品的光路之间还设置有聚焦透镜组。聚焦透镜组能够使得样品处激光功率更高,更强的荧光信号,易于亚表面微缺陷的探测,同时激光系统的准直性也更好。
优选的,上述熔石英亚表层微缺陷探测装置中,还包括防止激光进入人眼或灼伤皮肤的截止器,所述截止器位于激光照射到样品台上的样品后的反射光路上。该截止器能够防止激光器发射出的激光经过样品台上的样品反射后,进入人眼或灼伤皮肤。
相对于现有技术,本实用新型包括以下有益效果:
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