[实用新型]晶硅制绒槽

权利要求书

1.一种晶硅制绒槽，其特征在于，包括沿所述晶硅的操作方向依次排列的金属催化刻蚀槽、残余金属清洗槽、二次清洗槽和干燥预处理槽。

2.根据权利要求1所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述金属催化刻蚀槽包括沿所述晶硅的操作方向排列的酸制绒槽和第一水槽。

3.根据权利要求2所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述金属催化刻蚀槽还包括：

温控装置，其用于控制所述酸制绒槽中的酸性制绒液的温度恒定；以及

位于所述第一水槽开口上方的第一喷头。

4.根据权利要求2所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述金属催化刻蚀槽还包括位于所述酸制绒槽中的鼓泡装置。

5.根据权利要求2所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述金属催化刻蚀槽还包括：

铜离子检测装置，所述铜离子检测装置的电极插入所述酸制绒槽中的酸性制绒液中；

氟离子检测装置，所述氟离子检测装置的电极插入所述酸制绒槽中的酸性制绒液中；以及

酸性制绒液输送装置，其用于向所述酸制绒槽中输送酸性制绒液。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述残余金属清洗槽包括沿所述晶硅的操作方向排列的第一酸槽和第二水槽。

7.根据权利要求6所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述残余金属清洗槽还包括位于所述第一酸槽中的超声波清洗装置和位于所述第二水槽开口上方的第二喷头。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述二次清洗槽包括沿所述晶硅的操作方向排列的第二酸槽、第三水槽、碱槽和第四水槽。

9.根据权利要求8所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述二次清洗槽还包括分别位于所述第三水槽和第四水槽的开口上方的第三喷头和第四喷头。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的晶硅制绒槽，其特征在于，所述干燥预处理槽包括：

沿所述晶硅的操作方向排列的第三酸槽和第五水槽；以及

位于所述第五水槽开口上方的第五喷头。