[实用新型]一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置

权利要求书

1.一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，包括UVLED发光芯片（1），其特征在于：所述的UVLED发光芯片（1）前均放置有收集透镜（2），收集透镜（2）前均放置有曲面复眼（3），UVLED发光芯片（1）、收集透镜（2）和曲面复眼（3）的数量均为若干个，UVLED发光芯片（1）的光源经收集透镜（2）成像于曲面复眼（3）上，曲面复眼（3）前放置有倍率缩小镜头组（4），倍率缩小镜头组（4）前放置有匀光棒（7），曲面复眼（3）射出的光线经倍率缩小镜头组（4）成像于匀光棒（7）的入射端口，匀光棒（7）前放置有倍率放大镜头组（8），倍率放大镜头组（8）前放置有DMD芯片（11），匀光棒（7）出光端口射出的光线经倍率放大镜头组（8）成像于DMD芯片（11）表面。

2.根据权利要求1所述的一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，其特征在于：所述的倍率缩小镜头组（4）包括正透镜A（5）和正透镜B（6），正透镜A（5）和正透镜B（6）两者呈镜像对应，正透镜A（5）的焦距大于正透镜B（6）的焦距，曲面复眼（3）射出的光线经过正透镜A（5）和正透镜B（6）成像于匀光棒（7）的入射端口；所述的倍率放大镜头组（8）包括正透镜C（9）和正透镜D（10），正透镜C（9）和正透镜D（10）两者呈镜像对应，正透镜C（9）的焦距小于正透镜D（10）的焦距，匀光棒（7）出光端口射出的光线经过正透镜C（9）和正透镜D（10）成像于DMD芯片（11）表面。

3.根据权利要求1所述的一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，其特征在于：所述的若干个UVLED发光芯片（1）呈二维阵列方式布置，若干个收集透镜（2）呈二维阵列方式布置，若干个曲面复眼（3）呈二维阵列方式布置，相邻的UVLED发光芯片（1）之间的间隔距离与相邻的收集透镜（2）之间的间隔距离相等，相邻的收集透镜（2）之间的间隔距离与相邻的曲面复眼（3）之间的间隔距离相等。

4.根据权利要求1所述的一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，其特征在于：所述的曲面复眼（3）为矩形，曲面复眼（3）的面型为球面。

5.根据权利要求1所述的一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，其特征在于：所述的匀光棒（7）为矩形，匀光棒（7）的长宽比例与DMD芯片（11）的长宽比例相同。

6.根据权利要求1所述的一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，其特征在于：所述UVLED发光芯片（1）、收集透镜（2）和曲面复眼（3）的数量均为6个。