[实用新型]一种磁控溅射镀膜用的平面阴极

说明书

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射装置领域，特别涉及一种磁控溅射镀膜用的平面阴极。

背景技术

大面积磁控溅射广泛应用于光学、半导体、光电显示、纳米材料、集成线路和建筑装饰等行业，在目前的真空镀膜设备中，矩形平面溅射阴极是其核心设备，尤其是在大面积真空镀膜设备中更是如此。平面阴极是最早设计和广泛应用的阴极溅射系统，尤其为直流磁控溅射工艺在金属材料和类金属材料的溅射沉积镀膜领域的广泛应用。作为成熟的稳定性最好的磁控溅射阴极结构设计，大面积线性平面磁控溅射阴极有很多衍生的设计；目前广泛应用在镀膜工业行业中大的矩形平面溅射阴极，其在阴极周围设有屏蔽罩，屏蔽罩下端连接有阳极框，其中，阳极框、屏蔽罩与电源正极、地线相连并与阴极体保持一定的距离，零电位的屏蔽罩截获非靶材发射出的电子，避免氩气电离产生辉光放电，阻止靶座等部件产生溅射，有效保证镀膜质量，但是这些阴极设计都存在溅射靶材利用率不不高、溅射沉积不均匀和阴极冷却效果不佳的问题，影响和限制了线性平面阴极在大面积磁控溅射领域的应用。

公开号为CN203021644U的中国专利，公开了一种带有磁芯轴装置的镀膜用阴极磁棒装置，镀膜阴极靶的溅射速率，沉积速率和靶材利用率还是不够，使线性平面阴极应用受到影响。

实用新型内容

为了克服上述所述的不足，本实用新型的目的是提供一种利用率高、溅射沉积均匀、阴极冷却效果好的磁控溅射镀膜用的平面阴极。

本实用新型解决其技术问题的技术方案是：

一种磁控溅射镀膜用的平面阴极，其中，包括溅射靶、靶套、真空腔体、绝缘座、阴极座、铜背板、可调磁极板、基片架，所述靶套通过第一真空密封圈与所述真空腔体密封连接；所述绝缘座通过第二真空密封圈与所述靶套连接；所述阴极座通过第三真空密封圈与所述绝缘座连接；所述铜背板通过第四真空密封圈与所述阴极座连接；所述阴极座与所述铜背板之间形成冷却水腔；所述溅射靶固定在所述铜背板上；所述可调磁极板固定在所述冷却水腔内，所述可调磁极板与所述基片架连接。

作为本实用新型的一种改进，所述靶套紧固连接有阳极座，所述靶套与所述阳极座之间设置有工艺进气道，所述阳极座上紧固连接有均气压板。

作为本实用新型的进一步改进，所述可调磁极板设置有S极磁极、N极磁极、极靴座、极靴盖、磁板定位柱、磁板锁紧螺母、水密封盖、调整座、调整杆和调整螺母；所述S极磁极和N极磁极处在所述极靴座与所述极靴盖之间形成的极靴空间里，所述S极磁极和N极磁极固定在所述磁极板定位柱上，所述磁板锁紧螺母、所述调整螺母分别与所述调整杆配合连接，所述调整杆通过第五真空密封圈与所述阴极座连接，所述调整螺母固定在所述调整座上。

作为本实用新型的更进一步改进，所述阴极座设置有进水孔和出水孔，所述进水孔和出水孔分别与所述冷却水腔相连。

作为本实用新型的更进一步改进，所述绝缘座的材料为聚甲醛。

本实用新型的一种磁控溅射镀膜用的平面阴极包括溅射靶、靶套、真空腔体、绝缘座、阴极座、铜背板、可调磁极板、基片架，靶套通过第一真空密封圈与真空腔体密封连接；绝缘座通过第二真空密封圈与靶套连接；阴极座通过第三真空密封圈与绝缘座连接；铜背板通过第四真空密封圈与阴极座连接；阴极座与铜背板之间形成冷却水腔；溅射靶固定在铜背板上；可调磁极板固定在冷却水腔内，可调磁极板与基片架连接。在本实用新型中，通过采用全水冷的方式对铜背板进行冷却，在生产过程中可以最大化的带走溅射产生的热量；而且还通过采用可调磁极板全水冷的方式进行磁极板冷却，因此磁场的稳定性强，可以长期保持磁场的稳定性；另外，各部件的结合处采用静密封，密封效果好，有效地防止了漏水、漏气和阴极短路现象的发生，减少了维修成本，使得本实用新型使用寿命增长。本实用新型溅射靶利用率高、溅射沉积均匀、阴极冷却效果好。

附图说明

为了易于说明，本实用新型由下述的较佳实施例及附图作以详细描述。

图1为本实用新型的主视图；

图2为图1的左视图；

图3为图1的俯视图；

图4为本实用新型的一个实施例的主视图；

图5为图4的左视图；

图6为图4的俯视图；