[实用新型]狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备有效
申请号: | 201520719013.4 | 申请日: | 2015-09-16 |
公开(公告)号: | CN205008186U | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 金名亮;王丹;水玲玲;周国富 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/10 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明 |
地址: | 510631 广东省广州市大学城*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 狭缝 单元 布头 以及 布设 | ||
1.一种狭缝涂布单元,其特征在于:包括外壳,所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴,所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。
2.如权利要求1所述的狭缝涂布单元,其特征在于:所述分压通道的宽度与其对应的每一级进料通道的宽度相同。
3.如权利要求1所述的狭缝涂布单元,其特征在于:所述进料通道的下一级宽度为上一级宽度的80%。
4.如权利要求1所述的狭缝涂布单元,其特征在于:所述进料通道的深度与宽度的比例范围为1:100至1:1。
5.如权利要求1所述的狭缝涂布单元,其特征在于:所述进料通道的宽度从3cm递减至50μm。
6.如权利要求1所述的狭缝涂布单元,其特征在于:所述流体的速度范围为0.001ml/min至10ml/min。
7.一种涂布头,其特征在于:包括并排设置的多个如权利要求1至6任一项所述的狭缝涂布单元。
8.如权利要求7所述的涂布头,其特征在于:所述涂布头的还包括一分配单元,所述分配单元设有与所述狭缝喷嘴相通的匀料槽以及至少一条与所述匀料槽相通狭缝流道,所述狭缝流道的末端为涂布口。
9.一种涂布设备,其特征在于:包括如权利要求1至6任一项所述狭缝涂布单元。
10.一种涂布设备,其特征在于:包括如权利要求7所述的涂布头。
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