[实用新型]狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备有效

专利信息
申请号: 201520719013.4 申请日: 2015-09-16
公开(公告)号: CN205008186U 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 金名亮;王丹;水玲玲;周国富 申请(专利权)人: 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;B05C11/10
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 510631 广东省广州市大学城*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 狭缝 单元 布头 以及 布设
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及液体涂覆技术领域,尤其涉及狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备。

背景技术

狭缝涂布已经成为现有薄膜涂覆领域最具有代表性的薄膜涂覆方法之一,主要体现在液晶显示领域的像素制备工艺过程中的光敏胶涂覆。当前关于狭缝涂布的薄膜厚度与均匀性的控制主要有两种方法:第一种是通过在狭缝中添加夹片的方式控制挤出量的多少,以此来进一步调控涂覆薄膜的厚度,同时保证厚度的均匀性;第二种是通过供料系统的设计,尽量保证涂布头的进料流速的平稳性,以帮助更好的完成挤出料的可控性。这两种方法,都需要供料系统的流速保持非常稳定的状态才能达到均匀涂覆的要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题,在于提供一种狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备,能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是:

本实用新型提供了一种狭缝涂布单元,其包括外壳,所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴,所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。

作为上述技术方案的进一步改进,所述分压通道的宽度与其对应的每一级进料通道的宽度相同。

作为上述技术方案的进一步改进,所述进料通道的下一级宽度为上一级宽度的80%。

作为上述技术方案的进一步改进,所述进料通道的深度与宽度的比例范围为1:100至1:1。

作为上述技术方案的进一步改进,所述进料通道的宽度从3cm递减至50μm。

作为上述技术方案的进一步改进,所述流体的速度范围为0.001ml/min至10ml/min。

本实用新型提供了一种涂布头,其包括并排设置的多个如上所述的狭缝涂布单元。

作为上述技术方案的进一步改进,所述涂布头的还包括一分配单元,所述分配单元设有与所述狭缝喷嘴相通的匀料槽以及至少一条与所述匀料槽相通狭缝流道,所述狭缝流道的末端为涂布口。

本实用新型提供了一种涂布设备,其包括如上所述狭缝涂布单元。

本实用新型还提供了一种涂布设备,其包括如上所述的涂布头。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型狭缝涂布单元通过对在进料通道与狭缝喷嘴之间采用增加分压通道方式进行流体分流,通过出料通道进行回流,同时进料通道逐级变窄,将进料通道内流体的压力递减从而使流速逐级递减,如此一来,即便入口处进料流体因机械泵的压力变化引起流速变化,在狭缝喷嘴处的液体挤出速度基本不受影响,进而能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。

本实用新型涂布头采用了上述狭缝涂布单元,也就能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。

本实用新型涂布设备采用了上述狭缝涂布单元或涂布头,也能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。

附图说明

图1是本实用新型狭缝涂布单元的立体结构示意图;

图2是本实用新型狭缝涂布单元的全剖示意图;

图3是本实用新型狭缝涂布单元内的流体流动方向示意图;

图4是本实用新型涂布头第一种实施方式的正视角度的全剖视图;

图5是本实用新型涂布头第一种实施方式的左视角度的全剖视图;

图6是本实用新型涂布头第二种实施方式的正视角度的全剖视图。

具体实施方式

以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本实用新型的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本实用新型保护的范围。另外,专利中涉及到的所有联接/连接关系,并非单指构件直接相接,而是指可根据具体实施情况,通过添加或减少联接辅件,来组成更优的联接结构。本实用新型中的各个技术特征,在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。

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