[实用新型]光谱仪装调测试用视场光阑组件有效

专利信息
申请号: 201520737162.3 申请日: 2015-09-22
公开(公告)号: CN205037970U 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 袁立银;陈爽;钱立群;何志平;王跃明 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光谱仪 测试 视场 光阑 组件
【权利要求书】:

1.一种光谱仪装调测试用视场光阑组件,由光阑座(1)和光阑基片(2)组成,其特征在于:

所述的光阑基片(2)的一个表面上有二维图案(3),二维图案(3)以外区域为吸光区域;二维图案(3)是一组规律分布的明暗条纹,明条纹透光,暗条纹吸光,二维图案(3)关于光阑基片(2)的中心对称,有A、B、C、D、E五个区域,其分布与成像光谱仪视场的右侧边缘视场、右侧中间视场、中心视场、左侧中间视场、左侧边缘视场相对应;竖向的五对明暗条纹中的条纹宽度和间隔为探测器上的一个像元大小,长度为探测器上的十个像元大小;横向的条纹宽度为探测器上的一个像元大小,长度为探测器上的十个像元大小;横竖条纹间的间隔为探测器上的十个像元大小。

2.根据权利要求1所述的一种光谱仪装调测试用视场光阑组件,其特征在于:所述的二维图案(3)的明暗条纹尺寸和形位公差严格,为1/8瞬时视场对应的视场光阑缝宽尺寸;而与光阑基片(2)的相对形位公差较宽松,为±0.02mm,二维图案(3)与阑座(1)的形位公差严格,为±0.005mm,通过调整光阑基片(2)在阑座(1)的位置来实现。

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