[实用新型]用于气液反应设备的射流装置

权利要求书

1.用于气液反应设备的射流装置，包括花孔顶盖(2)，花孔顶盖(2)的上部设置有进液口，下部设置有液体喷射孔；其特征在于：还包括气液混合室(3)，所述花孔顶盖(2)安装在气液混合室(3)的顶部；所述气液混合室(3)的侧壁上设置有气体入口，所述气液混合室(3)的底部设置有排出口。

2.如权利要求1所述的用于气液反应设备的射流装置，其特征在于：还包括收缩管(4)，所述收缩管(4)呈上大下小的漏斗状，其上部与混合室的排出口连通，其下部为气液出口。

3.如权利要求2所述的用于气液反应设备的射流装置，其特征在于：还包括喉管(5)，所述喉管(5)一端与气液出口相连，另一端为出口，喉管(5)的中部还设置有支路接口。

4.如权利要求3所述的用于气液反应设备的射流装置，其特征在于：还包括扩散管(6)，所述扩散管(6)为上小下大的漏斗状，其上部与喉管(5)的出口相连，其下部为连接口。

5.如权利要求3所述的用于气液反应设备的射流装置，其特征在于：还包括主气管(7)、混合室支管(8)和分支管(9)，混合室支管(8)和分支管(9)均与主气管(7)相连并且并联，混合室支管(8)连接在气液混合室(3)的气体入口上，分支管(9)连接在喉管(5)的支路接口上。

6.如权利要求1所述的用于气液反应设备的射流装置，其特征在于：还包括进液管，所述进液管与进液口相连。