[实用新型]一种地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构有效

专利信息
申请号: 201520760333.4 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN205387702U 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 曹净;普琼香;刘海明;钱国伟 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: E02D5/18 分类号: E02D5/18;E02D15/04;E02D5/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 地下 连续 施工 过程 中的 封堵 结构
【权利要求书】:

1.一种地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:包括溶槽/沟(1)、高压定喷帷幕(2)、地下连续墙槽壁(4)、地下连续墙(5)、高压定喷孔位(7)、黏土泥浆填充墙(11);所述地下连续墙(5)范围内的溶槽/沟(1)采用黏土泥浆充填,形成黏土泥浆填充墙(11),根据溶槽/沟(1)的大小设定高压定喷孔位(7)、孔距、喷射墙板长度和喷射板厚,并在地下连续墙槽壁(4)位置外侧定出高压定喷帷幕(2)的中心线和孔位。

2.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述黏土泥浆填充墙(11)的厚度为0.8m~1.2m,高度与高压定喷帷幕(2)的高度相同。

3.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)中心线位于地下连续墙槽壁(4)外侧0.6m~0.8m处。

4.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)喷射板厚度为0.2m~0.3m。

5.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)相邻孔定喷连接形式有单喷嘴单墙首尾连接、双喷嘴单墙前后对接、双喷嘴夹角单墙连接、双喷嘴扇形单墙首尾连接、双喷嘴扇形单墙前后对接的形式。

6.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)的灌浆材料为水泥黏土浆,浆液水灰比为0.6~1.0,密度为1.57,黏度为26~30s。

7.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)高压喷管数为单管、二重管或三重管。

8.根据权利要求1所述的地下连续墙施工过程中的封堵溶槽或溶沟结构,其特征在于:所述高压定喷帷幕(2)喷嘴直径为2.0mm、2.5mm、3.0mm。

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