[实用新型]用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置

权利要求书

1.一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，其特征在于，所述等离子反应室元件的表面具有至少一目标处理区域和至少一非处理区域，所述遮蔽装置设置在所述等离子反应室元件的周围，用于遮蔽所述等离子反应室元件的所述至少一非处理区域并且暴露所述至少一目标处理区域。

2.如权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置至少包含：

一第一遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面的第一非处理区域；

一第二遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的相对于所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非处理区域；以及

一第一固定机构，用于将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别与所述等离子反应室元件结合。

3.如权利要求2所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第一固定机构包含多个螺丝，所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别锁固于所述等离子反应室元件的相对应的所述第一面或所述第二面。

4.如权利要求2或3所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元以及一第二固定机构，所述第三遮蔽单元设置在所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元之间，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域，所述第二固定机构用于使所述遮蔽单元互相结合。

5.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第三遮蔽单元为从一垂直于所述第一遮蔽单元或所述第二遮蔽单元的方向延伸形成。

6.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述第二固定机构包含多个螺丝，所述遮蔽装置的所述遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述遮蔽单元互相锁固。

7.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽单元与所述等离子反应室元件互相结合的位置和所述遮蔽单元互相结合的位置分别包含一气密元件。

8.如权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第四遮蔽单元套设在所述等离子反应室元件的一突出部，用于遮蔽一位于所述突出部的第四非处理区域。

9.如权利要求2所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元设置于所述等离子反应室元件的所述第一面，用于遮蔽位于所述等离子反应室元件的一突出部的一第三非处理区域，其中所述突出部从所述等离子反应室元件的所述第一面向外突伸形成。

10.如权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于，所述遮蔽装置包含一测试头，用于测试所述遮蔽装置是否有漏气现象。