[实用新型]用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种遮蔽装置，特别是涉及一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置。

背景技术

现今，等离子反应技术已被广泛的应用在例如半导体制造工业、显示面板制造工业、太阳能电池制造工业等各种产业中。等离子反应装置系由多个等离子反应室元件(材料包含铝合金或不锈钢)所组成，并且通过许多方法生成及/或控制等离子密度、形状以及反应腔体中的电气特征，使得等离子与反应气体反应以沉积期望的材料层于基板上。

一般而言，等离子反应装置在运转一段时间后必须进行定期的维修与保养，并且将等离子反应室元件的表面进行处理。表面处理的方法包含使用化学蚀刻、喷砂、抛磨或车铣等方式将在等离子反应室元件表面上的镀层进行彻底的退除。然而，为避免在表面处理时伤害等离子反应室元件的局部部件，必须耗费工时将部分特殊购件拆除或者是将非处理区域进行适当的遮蔽。

举例来说，当所述等离子反应室元件包含外露的铜管时，必须将所述铜管拆除，以避免在使用化学性的方式进行表面处理时铜管与化学液体产生反应。又例如，当所述等离子反应室元件为一静电吸盘(chuck)时，亦必须先将所述静电吸盘上的陶瓷盘拆除。然而，此拆除的步骤需耗费一定的工时。

再者，等离子反应室元件通常包含用于与另一等离子反应室元件对接或组装的组合基准面、气密圈结合面…等，为避免减损组合基准面的尺寸或者是破坏结合面的表面，必须在表面处理前采用遮护胶带或涂料的方式遮蔽等离子反应室元件的所述非处理区域。然而，若采用遮护胶带的方式进行遮蔽，在表面处理完的后势必会产生大量的废弃物，造成环境的污染。以及，若采用涂料的方式进行遮蔽，必须耗费大量工时在所述非处理区域重复地涂覆多层的涂料，才得以形成具有足够保护力的遮蔽膜。此外，当去除所述遮蔽膜后同样会产生大量的废弃物，造成环境的污染。

有鉴于此，有必要提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，其可有效地保护等离子反应室元件上的部分特殊部件(例如铜管或陶瓷盘)，使得在表面处理前不需将所述特殊部件拆除，以及所述遮蔽装置能快速地将所述与所述等离子反应室元件结合，并且有效地遮蔽所述等离子反应室元件的非处理区域。

实用新型内容

为解决上述现有技术的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述遮蔽装置包含多个遮蔽单元，用于分别遮蔽所述等离子反应室元件的多个非处理区域，并且还包含至少一固定机构，用于将所述遮蔽装置与所述等离子反应室元件结合，进而使所述遮蔽装置能快速且有效地遮蔽所述等离子反应室元件的非处理区域。

为达上述的目的，本实用新型提供一种用于等离子反应室元件表面处理的遮蔽装置，所述等离子反应室元件的表面具有一目标处理区域和至少一非处理区域，所述遮蔽装置设置在所述等离子反应室元件的周围，用于遮蔽所述等离子反应室元件的所述至少一非处理区域并且暴露所述目标处理区域。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置至少包含：一第一遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面的第一非处理区域；一第二遮蔽单元，设置在所述等离子反应室元件的相对于所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非处理区域；以及一第一固定机构，用于将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别与所述等离子反应室元件结合。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第一固定机构包含多个所述螺丝，以及所述等离子反应室元件、所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元分别锁固于所述等离子反应室元件的相对应的所述第一面或所述第二面。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽装置进一步包含一第三遮蔽单元以及一第二固定机构，所述第三遮蔽单元设置在所述第一遮蔽单元和所述第二遮蔽单元之间，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之间的第三非处理区域，所述第二固定机构用于使所述遮蔽单元互相结合。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第三遮蔽单元为从一垂直于所述第一遮蔽单元或所述第二遮蔽单元的方向延伸形成。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述第二固定机构包含多个所述螺丝，所述遮蔽装置的所述遮蔽单元分别包含至少一相对应的锁固孔，通过多个所述螺丝将所述遮蔽单元互相锁固。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述遮蔽单元与所述等离子反应室元件互相结合的位置和所述遮蔽单元互相结合的位置分别包含一气密元件。