[实用新型]用于直接光刻和数字微镜设备的装置和系统

权利要求书

1.一种用于直接光刻的装置，所述装置包括：

光源，所述光源能够发射激光；

镜面，所述镜面定位成使所述光源发射的所述激光折射；

镜面阵列，所述镜面阵列配置成用于反射所述镜面折射的所述激光；

透镜，所述透镜配置成用于折射所述镜面阵列反射的所述激光；

载物台，所述载物台能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及

控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度；

其中，所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在基本上垂直于所述X轴方向的Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述镜面阵列中的镜面中的每一个镜面在至少两种设置之间是可移动的，所述设置包括：

表示接通条件的角度；以及

表示关断条件的角度。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，表示所述关断条件的角度将所述激光引导至射束收集器。

4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，表示所述接通条件的角度经由透镜而将所述光引导向所述基板上的目标。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一数目比所述第二数目的比率在9∶16与7∶21之间。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一数目比所述第二数目的比率为9∶16。

7.一种数字微镜设备，所述数字微镜设备能够将来自光源的光反射至可在移动方向上移动的基板，所述数字微镜设备包括：

多个数字微镜，所述多个数字微镜布置成在X轴方向上至少一行和在X轴方向上至少一列，其中：

所述至少一行中的数字微镜的数目超过所述至少一列中的数字微镜的数目；并且

所述至少一行基本上垂直于所述移动方向。

8.如权利要求7所述的数字微镜设备，其特征在于，所述至少一列中的数字微镜的数目比所述至少一行中的数字微镜的数目的比率在3∶4与9∶68之间。

9.如权利要求7所述的数字微镜设备，其特征在于，所述至少一列中的数字微镜的数目比所述至少一行中的数字微镜的数目的比率在9∶16与7∶21之间。

10.一种用于直接光刻的系统，所述系统包括：

至少一个空间光调制器，每一个空间光调制器包括：

光源，所述光源能够发射激光；

折射镜，所述光源发射的所述激光可被引导至所述折射镜；

镜面阵列，所述镜面阵列配置成用于反射所述折射镜折射的所述激光；以及

透镜，所述透镜配置成用于折射所述镜面阵列反射的所述激光；

载物台，所述载物台能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及

控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度；

其中，所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。

11.如权利要求10所述的系统，其特征在于，所述镜面阵列中的每一个镜面在至少两种设置之间是可移动的，所述设置包括：

表示接通条件的角度；以及

表示关断条件的角度。

12.如权利要求11所述的系统，其特征在于，表示所述关断条件的角度将所述激光引导至射束收集器。

13.如权利要求11所述的系统，其特征在于，表示所述接通条件的角度经由透镜将所述光引导向所述基板上的目标。

14.如权利要求10所述的系统，其特征在于，所述第一数目比所述第二数目的比率在3∶4与7∶21之间。

15.如权利要求10所述的系统，其特征在于，所述第一数目比所述第二数目的比率为9∶16。