[实用新型]用于直接光刻和数字微镜设备的装置和系统

说明书

技术领域

本公开的实施例一般涉及用于处理一个或多个基板的系统和方法，更具体而言，涉及用于执行光刻工艺的系统和方法。

背景技术

光刻广泛用于半导体器件和显示设备(诸如，液晶显示器(LCD))的制造中。大面积基板通常用于LCD的制造中。LCD(或平板)常用于有源矩阵显示器，诸如，计算机、触板设备、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、电视监控器等。通常，平板可以包括形成夹在两个板之间的像素的液晶材料层。当跨液晶材料施加来自电源的电力时，可在像素位置处对穿过液晶材料的光量进行控制，使得能够生成图像。

显微光刻技术一般用来创建作为形成像素的液晶材料层的部分而被并入的电特征。根据这项技术，通常将光敏光刻胶施加至基板的至少一个表面。随后，图案生成器将作为图案的部分的光敏光刻胶的所选区域暴露于光，从而导致选择性区域中的光刻胶发生化学变化，以为后续的材料去除和/或材料添加工艺准备好这些选择性区域以创建电特征。

为了能够继续以消费者要求的价格来向消费者提供显示设备以及其他设备，需要新的装置和方法在基板(诸如，大面积基板)上精确地并且高成本效益地创建图案。

实用新型内容

本文所述的实施例一般涉及用于执行光刻工艺的系统和方法。更具体地，本文所述的实施例使用数字微镜设备(DMD)来实现稳健且可靠的光刻。

在一个实施例中，提供了用于执行光刻工艺的装置。所述装置包括：光源，所述光源能够发射激光；镜面，所述镜面定位成使所述光源发射的所述激光折射；镜面阵列(或数字微镜设备)，所述镜面阵列配置成用于反射所述镜面折射的所述激光；透镜，所述透镜配置成用于折射所述镜面阵列反射的所述激光；载物台，所述载物台能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度；其中，所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在基本上垂直于所述X轴方向的Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。

在另一个实施例中，提供了包括DMD的装置。所述DMD能够将来自光源的光反射至可在扫描方向上移动的基板。所述DMD包括多个数字微镜，所述多个数字微镜布置成在X轴方向上至少一行和在Y轴方向上至少一列，其中，所述至少一行中的数字微镜的数目超过所述至少一列中的数字微镜的数目；并且所述至少一行基本上垂直于扫描方向。

在另一个实施例中，提供了用于光刻的系统。用于光刻的所述系统包括至少一个空间光调制器。每一个空间光调制器包括：光源，所述光源能够发射激光；折射镜，所述光源发射的所述激光可指向至所述折射镜；镜面阵列，所述镜面阵列配置成用于反射所述折射镜折射所述激光；以及透镜，所述透镜配置成用于折射所述镜面阵列反射的所述激光。用于光刻的所述系统进一步包括：载物，所述载物能够支撑所述激光所指向的基板，其中，所述载物台配置成在X轴方向上移动；以及控制器，所述控制器配置成用于控制所述镜面阵列中的每一个镜面的角度。所述镜面阵列包括第一数目的镜面和第二数目的镜面，所述第一数目的镜面在所述X轴方向上对齐，所述第二数目的镜面在基本上垂直于所述X轴方向的Y轴方向上对齐，所述第二数目大于所述第一数目。

附图说明

因此，为了可详细理解本公开案的上述特征的方式，可参照实施例来进行上文简要概述的对本公开的更具体的描述，在所附附图中图示这些实施例中的一些。然而，应当注意，所附附图仅图示本公开的典型实施例，且因此不应被视为限制本公开的范围，因为本公开可以允许其他等效实施例。

图1是可受益于本文所公开的实施例的系统的立体图。

图2是根据一个实施例的图1的系统的横截面侧视图。

图3是根据一个实施例的多个图像投影系统的示意性立体图。

图4是根据一个实施例的图3的多个图像投影系统中的一个图像投影系统的示意性透视图。

图5是根据一个实施例的DMD的两个镜面的放大的立体图。

图6示意性地例示由根据一个实施例的图5的DMD的两个镜面反射的射束。

图7示意性地例示根据一个实施方式的在处理期间通过图5的DMD下方的基板。

图8是提供若干市售类型的DMD的特性的表。

为了促进理解，在凡是可能的地方，已使用完全相同的参考编号来指定各图所共有的完全相同的元件。另外，一个实施例中的元件可有利地适配用于本文所描述的其他实施例。