[实用新型]一种可视化系统及工艺腔室

说明书

技术领域

本公开的实施方式通常涉及用于基板(诸如半导体基板)的掩模和对准装置与操作。

背景技术

在诸如OLED平板的基板上的沉积工艺期间，掩模可被放置在沉积源与基板之间以防止在基板上的选定位置中的材料沉积。随着装置几何形状持续缩小，精确掩模定位和对准变得对于促进基板表面上的准确沉积日益重要。然而，现存的掩模对准技术可能不具有实现下一代装置所需的准确度。

因此，存在对于改进的掩模对准装置和方法的需要。

实用新型内容

本公开通常涉及相对于基板对准掩模的装置和方法。在一个实施方式中，用于对准的可视化系统包括双光源。双光源包括用于观察基板上的对准标记的第一光源，和用于观察掩模上的掩模开口或其他对准标记的第二光源。可发生第一光源和第二光源之间的切换以促进掩模相对于基板的对准。可视化系统也可在Z轴上致动以当成像掩模时将可视化系统聚焦，从而促进由于掩模整修或影响掩模尺寸的其他因素的相距原始或默认位置的掩模位移的确定。

在一个实施方式中，可视化系统包含：第一光源，具有环状；第二光源，适合于导引光通过第一光源的中心；透镜，定位在第一光源和摄像机之间，所述摄像机导引通过第一光源的中心且适合于通过透镜捕获图像。

在另一实施方式中，工艺腔室包含：基板支撑件，定位在工艺腔室的主体之内；一个或多个运动对准元件，用于支撑在所述运动对准元件上的掩模；和可视化系统，被定位以检测掩模与支撑在所述基板支撑件上的基板的对准，可视化系统，包含：第一光源，具有环状；第二光源，适合于导引光通过第一光源的中心；透镜，定位在第一光源和摄像机之间，所述摄像机导引通过第一光源的中心且适合于通过透镜捕获图像。

在另一实施方式中，一种处理基板的方法包含：将基板定位在工艺腔室中的基板支撑件上，所述基板相邻掩模定位；使用可视化系统的摄像机将基板相对于掩模对准，其中所述掩模先前已经受整修；垂直地致动摄像机以将摄像机聚焦在掩模上，其中在聚焦期间的摄像机的垂直距离的变化对应于由于整修的掩模位置或厚度中的变化；以及将掩模布置在基板上。

附图说明

因此，以可详细地理解本公开的上述特征的方式，可参考实施方式获得上文简要概述的本公开的更特定描述，所述实施方式中的一些实施方式在附图中示出。然而，应注意，附图仅示出示例性实施方式且因此不将附图视为限制本公开的范畴，因为本公开可允许其他同等有效的实施方式。

图1A是根据一个实施方式的化学气相沉积装置的示意横截面图。

图1B是图1A中所示的装置的一部分的扩大示意图。

图2A是根据一个实施方式的可视化系统的示意图。

图2B是如图2A中所示的可视化系统的一部分的俯视图。

图3是根据一个实施方式的掩模和对准系统的示意等距视图。

图4是根据一个实施方式的遮蔽框的底视图。

图5是用于对准掩模的方法的流程图。

图6A至图6D示出在对准操作期间的掩模的局部视图。

图7A至图7C示出使用本公开的视觉系统的测量可重复性的图形。

图8示出通过本公开的可视化系统执行的焦点测量的图形。

为了便于理解，在可能的情况下，已使用相同元件符号来指定对诸图共用的相同元件。可以预期，一个实施方式的元件和特征可有利地并入其他实施方式中而无需进一步叙述。

具体实施方式

本公开通常涉及相对于基板对准掩模的装置和方法。在一个实施方式中，用于对准的可视化系统包括双光源。双光源包括用于观察基板上的对准标记的第一光源，和用于观察掩模上的掩模开口或其他对准标记的第二光源。可发生第一光源和第二光源之间的切换以促进掩模相对于基板的对准。可视化系统也可在Z轴上致动以当成像掩模时将可视化系统聚焦，从而促进由于掩模整修或影响掩模尺寸的其他因素的相距原始或默认位置的掩模位移的确定。