[实用新型]一种新型多晶硅片清洗机

说明书

技术领域

本发明属于光伏机械领域，具体涉及一种新型多晶硅片清洗机。

背景技术

光伏产业的新兴带动了很多相关产业的发展，其中多晶硅片的生产加工为最基础 的一部分。通常的多晶硅在切片后需要进行清洗，并在清洗后旋转脱水，清洗之前需要人工 将多晶硅片整理码放，清洗后还需要重新码放，因多晶硅片质量要求较高，因此人为操作容 易对多晶硅片产生损伤，而且浪费人力。

发明内容

为解决上述问题，本发明公开了一种新型多晶硅片清洗机，以用来解决人力资源 浪费及多晶硅片易损的问题。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一种新型多晶硅片清洗机，包括清洗仓、沥水仓和干燥仓，所述清洗仓内中间横向 设置轨道一，所述轨道一两侧设置喷雾喷头，喷雾喷头之间设置超声波发射器，所述沥水仓 位于清洗仓右侧，沥水仓内设置轨道二，沥水仓内左侧上方设置干燥空气入口，所述轨道二 与轨道一宽度相同，轨道二与轨道一交界处设置PVC软帘，轨道二延伸至干燥仓出口，轨道 二在沥水仓及干燥仓内为上下弯折设置，所述干燥仓位于沥水仓右侧，干燥仓与沥水仓尺 寸相同，干燥仓左侧下方设置干燥空气入口二，干燥仓与沥水仓中间设置挡板，所述挡板在 轨道二通过处开有通道。

作为本发明的一种改进，所述喷雾喷头可设置5~8组。

作为本发明的一种改进，所述轨道一为镂空。

作为本发明的一种改进，所述清洗仓内喷雾喷头温度为50℃~65℃。

作为本发明的一种改进，所述干燥空气温度为60℃~70℃。

作为本发明的一种改进，所述轨道二在沥水仓中的长度小于干燥仓。

作为本发明的一种改进，所述轨道二上设置半月形链片式网带。

本发明的有益效果是：

本发明所述的一种新型多晶硅片清洗机，通过轨道一和轨道二的运作，将码放整 齐的多晶硅片在清洗仓内清洗完成运送至沥水仓，沥水仓内设置干燥空气入口一，在自然 沥水过程中加速水分蒸发，在干燥仓内设置干燥空气入口二，降低空气含水量，提高干燥速 度，整个过程自动化完成，节约人力，减少人为的损坏。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

附图标记列表：

1.清洗仓，2.沥水仓，3.干燥仓，4.喷雾喷头，5.超声波发射器，6.轨道一，7.PVC软 帘，8.轨道二，9.挡板，10.通道，11.出口，12.干燥空气入口一，13干燥空气入口二。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，进一步阐明本发明，应理解下述具体实施方式仅 用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、 “后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远 离特定部件几何中心的方向。

如图所示，一种新型多晶硅片清洗机，包括清洗仓1、沥水仓2和干燥仓3，所述清 洗仓1内中间横向设置轨道一6，所述轨道一6两侧设置喷雾喷头4，喷雾喷头4之间设置超声 波发射器5，所述清洗仓1内喷雾喷头4温度为50℃~65℃，在整个机器内设置不同的仓位，可 以实现多晶硅片清洗干燥一体，喷雾喷头4内的是由蒸馏水混合硅片清洗剂，并将水温控制 在50℃~65℃，使清洗剂达到最大的活性而且超声效果好，利用轨道一6的运作将码放好的 多晶硅片清洗干净，运送至沥水仓2内。

如图所示，所述沥水仓2位于清洗仓1右侧，沥水仓2内设置轨道二8，沥水仓2内左 侧上方设置干燥空气入口一12，在多晶硅片自然沥水的过程中利用干燥空气，加速多晶硅 片的水分蒸发，实现干燥的目的，所述轨道二8与轨道一6宽度相同，便于多晶硅片顺利从清 洗仓1进入沥水仓2，轨道二8延伸至干燥仓3出口11，轨道二8在沥水仓2及干燥仓3内为上下 弯折设置，延长多晶硅片在沥水仓2及干燥仓3的时间，实现干燥多晶硅片的目的，所述干燥 仓3位于沥水仓2右侧，干燥仓3与沥水仓2尺寸相同，干燥仓3左侧下方设置干燥空气入口二 13，降低干燥仓3内空气的干燥量，干燥仓3与沥水仓2中间设置挡板9，分隔干燥仓3与沥水 仓2，防止潮湿空气流动过大，影响干燥程度，所述挡板9在轨道二8通过处开有通道10，方便 轨道二8的运作。