[实用新型]一种用于半导体刻蚀机的带通滤波器有效

专利信息
申请号: 201520948040.9 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN205092834U 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 李光健;乔世波 申请(专利权)人: 北京北广科技股份有限公司
主分类号: H03H7/09 分类号: H03H7/09
代理公司: 北京市科名专利代理事务所(特殊普通合伙) 11468 代理人: 陈朝阳
地址: 100000 北京市顺*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 刻蚀 带通滤波器
【权利要求书】:

1.一种用于半导体刻蚀机的带通滤波器,包括信号输入端口,其特征在于,信号输入端口依次串联有3阶高通LC滤波电路,3阶低通LC滤波电路,2阶低通LC滤波电路和信号输出端;信号输入端口的一端和信号输出端的一端均接地。

2.如权利要求1所述的用于半导体刻蚀机的带通滤波器,其特征在于,信号输入端口依次串联第一电容、第三电感、第四电感和信号输出端;第一电容的两端分别连接第一电感的一端和第二电感的一端;第一电感的另一端和第二电感的另一端相连后接地;第三电感的两端分别连接第二电容的一端和第三电容的一端,第二电容的另一端和第三电容的另一端相连后接地;第四电感和信号输出端连接第四电容的一端,第四电容的另一端接地;3阶高通LC滤波电路包括第一电容、第一电感和第二电感;3阶低通LC滤波电路包括第三电感、第二电容和第三电容;2阶低通LC滤波电路包括第四电感和第四电容。

3.如权利要求2所述的用于半导体刻蚀机的带通滤波器,其特征在于,所述第一电感、第二电感、第三电感和第四电感之间互相垂直或交错设置。

4.如权利要求3所述的用于半导体刻蚀机的带通滤波器,其特征在于,滤波器外设有壳体;所述第一电感轴向平行于壳体的底板;第二电感轴向垂直于壳体的底板;第三电感轴向垂直于第一电感的轴向和第二电感的轴向;第四电感轴向垂直于第三电感的轴向且平行于第一电感的轴向;第四电感与第一电感交错设置。

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