[实用新型]具有增置阳极的镀膜系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及刀具的表面处理工艺，尤其涉及用于给刀具表面镀膜的镀膜系统。

背景技术

在高速钢、硬质合金，合金陶瓷等切削刀具上制作硬质薄膜，通常利用物理气相沉积 技术，现有技术中一般是通过初期离子清洗或利用制作缓冲层提高镀膜附着力。不同的涂 层种类，会使用相应的成分的靶材进行气相沉积，因此会出现众多靶材的现象。虽然它们 具有各自的优点，却存在靶材众多，并因镀膜不同而频繁更换靶材的问题，严重影响生产 效率。

实用新型内容

本实用新型主要应用于TiaAlbN(0.3≤a≤0.7)结构的镀膜，一般的TiAlN薄膜所使 用的成分比主要是Ti:Al＝0.3:0.7,Ti:Al＝0.5:0.5,Ti:Al＝0.33:0.67。以往的做法是使用 不同的靶材制作不同的镀膜，因此存在频繁更换不同靶材的问题。

为了解决现有技术存在的以上问题，本实用新型设计了一种具有增置阳极的镀膜系统 该镀膜系统通过增置阳极，使靶材离化率提高，利用势能使得镀膜附着力明显提升。

为实现上述目的，本实用新型提供的具有增置阳极的镀膜系统，采用如下技术方案：

具有增置阳极的镀膜系统，包括镀膜室、气体单元、质量流量控制单元、放电控制单 元、以及真空单元，其中：

所述放电控制单元包括设置于镀膜室内的两个阴极靶、增置阳极、以及设置于镀膜室 外的弧电源、稳压电源和多个开关，所述两个阴极靶包括第一阴极靶和第二阴极靶，增置 阳极包括第一增置阳极和第二增置阳极，弧电源包括第一弧电源和第二弧电源，稳压电源 包括第一稳压电源和第二稳压电源；

所述第一阴极靶与所述第一弧电源的负极相连，所述第一弧电源的正极与所述镀膜室 通过第三开关相连，第一弧电源的正极与所述第二增置阳极通过第七和第四开关相连；所 述第一稳压电源的负极与所述镀膜室连接，所述第一稳压电源的正极与所述第一增置阳极 通过第五开关和第一开关连接；

所述第二阴极靶与所述第二弧电源的负极相连，所述第二弧电源的正极与所述镀膜室 通过第二开关相连，第二弧电源的正极与所述第一增置阳极通过第六开关和第一开关相连； 所述第二稳压电源的负极与所述镀膜室连接，所述第二稳压电源的正极与所述第二增置阳 极通过第八开关和第四开关连接。

进一步地，所述第一增置阳极和/或第二增置阳极的内部设有磁铁。

优选的，所述第一增置阳极和第二增置阳极设置为分别与所述第二阴极靶和所述第一 阴极靶的位置方向相对。

优选的，所述第一阴极靶的材质为钛，所述第二阴极靶的材质为铝。

有益效果：本实用新型提供的具有增置阳极的镀膜系统利用增置阳极，使靶材离化率 提高，利用势能使得镀膜附着力明显提升。

附图说明

图1是本实用新型涉及的具有增置阳极的镀膜系统示意图，其中100—镀膜室、101A —第一阴极靶、101B—第二阴极靶、102A—第一弧电源、102B—第二弧电源、103A—第一 增置阳极、103B—第二增置阳极、104A—第一稳压电源、104B—第二稳压电源。

图2是本实用新型涉及的具有增置阳极的镀膜系统示意图，其状态是在101A上提供40V 电压。

图3是本实用新型涉及的具有增置阳极的镀膜系统示意图，其状态是在101B上提供40V 电压。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明：

本实用新型的镀膜系统构成如图1所示，由镀膜室100、第一阴极靶101A、第二阴极 靶101B、第一弧电源102A、第二弧电源102B、第一增置阳极103A、第二增置阳极103B、 第一稳压电源104A、第二稳压电源104B和多个开关构成。

本实用新型中第一增置阳极103A和第二增置阳极103B的作用是使得电离子向一定的 方向集中，提高靶材的离化率。

在图2中，第一弧电源102A的电压调节为40V，第一阴极靶101A以40V电压向第二增 置阳极103B放电，使得放电离子方向更加集中，提高靶材的离化率。

进一步地，在第二增置阳极103B内部装置磁铁，其感应强度设为500-1000高斯。这 可使放电离子方向更为集中。