[实用新型]能降低浮动现象的半导体承盘有效

专利信息
申请号: 201521046773.X 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN205319135U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 罗郁南 申请(专利权)人: 晨州塑胶工业股份有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 中国台湾台中*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 降低 浮动 现象 半导体
【说明书】:

技术领域

实用新型是与半导体的定位装置有关;尤其是与一种能降低浮动现象的半导体承 盘有关。

背景技术

半导体托盘(业界俗称为Tray盘)是一种用以承载复数半导体芯片,以便这些半导 体芯片被集体运载进行半导体制程的制程或测试程序;

而在半导体制程的过程中无法避免处理溶剂或液体的接触,因此一般的半导体托盘 如图1所示,该半导体托盘10是在一基底部11上设置复数乘载区12,各该乘载区12 内设置一容槽121以容置半导体,而为兼具排水的效果,因此更会在该容槽121的槽底 开设一开孔122,透过该开孔122提供排水的管道;

然而,由于该开孔122是设置于容置半导体的容槽121的槽底,而一般的半导体托 盘10为提高搬运效率又会层叠设置,在两个半导体承盘层叠的过程中,层叠的动作将 会在两半导体承盘间产生气流的扰动,而扰动的气流将会沿该开孔122进入该容槽121, 一旦扰动的气流由该开孔122进入容槽121,由于现今的半导体的体积均已薄型化、微 型化,因此扰动的气流将会造成半导体产生浮动现象,致使半导体产生跳动甚至脱离容 槽,于此状况下若续行半导体承盘10的层叠工作将使得半导体承盘10压损半导体,导 致不必要的损失因而有待改善。有鉴于此,本实用新型创作人潜心研究并更深入构思, 历经多次研发试作后,终于创造出一种能降低浮动现象的半导体承盘。

实用新型内容

本实用新型提供一种能降低浮动现象的半导体承盘,其主要目的是改善一般半导体 承盘层叠设置时会因气流扰动导致半导体浮动的不稳定现象。

为达前述目的,本实用新型提供一种能降低浮动现象的半导体承盘,包含一基底部 的至少一面上间隔成形复数乘载区,该基底部于该乘载区以外的区域设置复数通孔,其 中:

该基底部两面的连接方向定义为高度方向H;

各该乘载区成形一容槽供以容置半导体,该容槽是由一凸垣围绕成一封闭轮廓与该 基底部所共同界定出,该凸垣的一端衔接于该基底部,且该容槽的槽底更再凹陷设置一 凹槽,该容槽的槽底高度低于该凸垣的另一端,而该凹槽的高度低于该容槽的槽底高度; 以及

该些通孔贯穿该基底部的两面。

本实用新型主要透过于该半导体承盘的乘载区以外的位置设置通孔,据此使半导体 能稳定地乘载于乘载区内,而乘载区以外的通孔则可作为扰动气流逃逸的管道,避免扰 动气流扰动半导体或半导体承盘整体,据此提高提高层叠动作的顺畅性,并据此能提高 产品良率及经济价值。

附图说明

图1为一般半导体承盘的示意图。

图2为一般半导体承盘的剖视图。

图3为本实用新型能降低浮动现象的半导体承盘的平面示意图。

图4为本实用新型能降低浮动现象的半导体承盘的立体剖视图。

在附图中用到的符号说明如下:

〈先前技术〉

半导体托盘10基底部11

乘载区12容槽121

开孔122

〈本实用新型〉

基底部20乘载区30

容槽31凸垣311

凹槽312通孔40

具体实施方式

本实用新型提供一种能降低浮动现象的半导体承盘,请配合参阅图3至图4所示, 包含一基底部20的至少一面上间隔成形复数乘载区30,该基底部20于该乘载区30以 外的区域设置复数通孔40,其中:

该基底部20两面的连接方向定义为高度方向H;

各该乘载区30成形一容槽31供以容置半导体,而本实施例的容槽31是由一凸垣 311围绕成一封闭的方形轮廓与该基底部20所共同界定出,该凸垣311的一端衔接于该 基底部20,且该容槽31的槽底更再凹陷设置一凹槽312,该容槽31的槽底高度低于该 凸垣311的另一端,而该凹槽312的高度低于该容槽31的槽底高度;以及

该些通孔40贯穿该基底部20的两面,且本实施例中的这些通孔40是相同大小并 于该基底部20上呈矩阵排列;当然,该些通孔40也能不规则排列于该基底部20上或 是呈不规则尺寸地设置于该基底部20上,只要该些通孔40符合设置于乘载区30以外 的区域均属本案所欲保护的范畴。

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