[实用新型]定位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及面板制造领域，尤其涉及一种用于承载并定位玻璃基板的 定位装置。

背景技术

近年来，随着高分辨率智能手机的盛行以及智能手机屏幕平均尺寸的持续 增大，基于低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon，LTPS)技术的面板需 求将持续走高。在上述面板制造过程中，当需要在硬化退回炉设备内对玻璃基 板进行快速热退火(RapidThermalAnnealing，RTA)工艺时，该工艺的主要作 用为使玻璃基本的内部组织达到或接近平衡状态，进而获得良好的工艺性能和 使用性能。在进行RTA工艺过程中，现有技术的一种实现方式为将玻璃基板 放置于由石英材料制成的基板载台上，基板载台则放置于一个传送装置上，玻 璃基板在传送装置的带动下经过硬化退火炉内各个处理区来进行RTA工艺。

然而，在玻璃基板的传送过程中，承接玻璃基板的基板载台可能有加速和 减速的过程，同时由于玻璃基板与基板载台之间的相对摩擦力小于玻璃基板自 身惯性力的可能，这就导致玻璃基板会在基板载台上发生漂移，造成玻璃基板 碎片等异常情况。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题，提供一种能够保证玻璃基板在传 送过程中能够被良好定位的定位装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种定位装置，用于承载并定位玻璃 基板，所述定位装置包括用于承接玻璃基板的基板载台及安装于基板载台上的 静电吸盘，所述静电吸盘被施加直流电压后，所述玻璃基板定位于基板载台。

进一步的，所述静电吸盘为双极型静电吸盘。

进一步的，所述静电吸盘为两个，每个所述静电吸盘内设有第一电极与第 二电极。

进一步的，所述直流电压包括正直流电压和负直流电压，所述正直流电压 施加于一个静电吸盘内的第一电极，所述负直流电压施加于另一静电吸盘的第 二电极。

进一步的，所述两个静电吸盘分别连接供电部。

进一步的，所述基板载台的下表面设有两个收容槽，所述两个静电吸盘分 别位于所述两个收容槽内。

进一步的，所述定位装置放置于硬化退火炉的传送装置上。

进一步的，所述传送装置的一部分收容于所述收容槽内。

与现有技术相比，本实用新型实施例提供的定位装置内具有安装于基板载 台上的静电吸盘，通过静电吸盘使得玻璃基板与基板载台之间产生吸引力而将 玻璃基板牢固定位于基板载台上，避免玻璃基板在基板载台的移动过程中发生 偏移而造成玻璃基板碎片。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型 的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构 成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型优选实施例提供的定位装置的截面视图；

图2为图1所示的定位装置与玻璃基板及传送装置配合示意图；

图3为图1内所示定位装置内的静电吸盘的示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新 型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。显 然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基 于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1、图2所示，本实用新型较佳实施例提供了一种应用于硬化退火炉 (未图示)内的定位装置100，该定位装置100用于定位需要进行快速热退火 工艺的玻璃基板3。需要说明的，硬化退火炉内具有可以传送定位装置100的 循环式传送装置200，传送装置200可以对定位装置100及玻璃基板3进行连 续传送处理，即在线式(in-line)处理。具体的，该传送装置200可以为一导 轨结构。

当玻璃基板3需要进行快速热退火工艺时，玻璃基板3可以放置于定位装 置100的基板载台1上，在传送装置200的带动下，玻璃基板3随定位装置100 一同进入硬化退火炉内进行传送且同时加热，当完成快速热退火后，玻璃基板 3连同定位装置100被传送出硬化退火炉。