[实用新型]曝光机的UV能量调整装置有效

专利信息
申请号: 201521099414.0 申请日: 2015-12-22
公开(公告)号: CN205229668U 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 王启毓;张永裕 申请(专利权)人: 志圣工业股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 代理人: 刘云贵;王东
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 曝光 uv 能量 调整 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机的UV能量调整装置,尤其涉及一种可调整 各式机型的曝光机的UV-LED的照射能量为均匀以提升制程的合格率的装 置。

背景技术

现今的印刷电路板多利用曝光机制成,然而一般的曝光机的光源在经常 使用后,常会造成各个光源彼此照射的能量不一致,以致所有光源的照射能 量不均匀,进而造成曝光不良,降低印刷电路板制成的合格率。

为此,中国台湾第M346791号新型专利揭露一种辉度检测装置,其主 要是在平面发光体的上方布设多个辉度传感器,以感测平面发光体上多个位 置的辉度。然而,由于第M346791号新型专利需在平面发光体的上方布设 多个辉度传感器,因此第M346791号新型专利的感测结构复杂且成本高; 另外,由于第M346791号新型专利需使用多个辉度传感器,而各个辉度传 感器的质量并不一定会均一,因此各个辉度传感器所感测的辉度的基础并不 一定会一致;再者,由于平面发光体的上方布设辉度传感器的空间有限,因 此第M346791号新型专利并无法在平面发光体的上方布设对应平面发光体 光源数量的辉度传感器,以确实感测平面发光体的各个光源的辉度;再者, 第M346791号新型专利并未揭露若平面发光体的各个光源的辉度不同时要 如何使各个光源的辉度相同。

另外,中国台湾第M409455号新型专利揭露一种曝光能量调整系统, 其主要是在平面发光体的照射方向上布设多个光能量传感器,以感测平面发 光体上多个光源的曝光能量。然而,由于第M409455号新型专利需在平面 发光体的照射方向上布设多个光能量传感器,因此第M409455号新型专利 的感测结构复杂且成本高;另外,由于第M409455号新型专利需使用多个 光能量传感器,而各个光能量传感器的质量并不一定会均一,因此各个光能 量传感器所感测的曝光能量的基础并不一定会一致;再者,由于平面发光体 的照射方向上布设光能量传感器的空间有限,因此第M409455号新型专利 并无法于平面发光体的照射方向上布设对应平面发光体光源数量的光能量 传感器,以确实感测平面发光体的各个光源的曝光能量;再者,当平面发光 体的各个光源的曝光能量不同时,第M409455号新型专利是以调整各个光 源的位置改善曝光能量的均匀性,其调整的方式实为烦琐。

再者,中国台湾第M506995号新型专利揭露一种曝光机的校验装置, 其主要是在曝光机内建的上曝光平台及下曝光平台上分别设置有上光传感 器及下光传感器,之后再利用曝光机内建的上移载机构及下移载机构相对于 上曝光平台及下曝光平台的移动而使各个光传感器感测上照射部及下照射 部的各个光源的照射能量。然而,由于第M506995号新型专利的光传感器 是设置于曝光机内建的曝光平台上,因此第M506995号新型专利的校验装 置仅能适用于特定机型的曝光机,而不能泛用于各式机型的曝光机。

因此,如何创作出一种曝光机的UV能量调整装置,以使其可调整各式 机型的曝光机的UV-LED的照射能量为均匀以提升制程的合格率,将是本 实用新型所欲积极揭露之处。

实用新型内容

有鉴于上述现有技术的缺憾,发明人有感其未臻于完善,于是竭其心智 悉心研究克服,进而研发出一种曝光机的UV能量调整装置,以期达到可调 整各式机型的曝光机的UV-LED的照射能量为均匀以提升制程的合格率的 目的。

为达上述目的及其他目的,本实用新型提供一种曝光机的UV能量调整 装置,其包含:UV能量感测部,其具有UV能量传感器及至少一个移动机 构,该移动机构驱动该UV能量传感器移动,该UV能量传感器用以感测该 曝光机的一平面光源的多个UV-LED的照射能量,上述UV-LED用以照射 曝光对象;以及UV能量调整部,其连接上述UV-LED、该UV能量传感器 及该移动机构,以调整上述UV-LED的照射能量为相同。

上述的曝光机的UV能量调整装置中,该UV能量传感器通过该移动机 构相对于该平面光源移动以感测上述UV-LED的照射能量,上述UV-LED 的照射能量传送至该UV能量调整部,该UV能量调整部调整上述UV-LED 的照射能量为上述UV-LED的照射能量中的最低者,或该UV能量调整部调 整上述UV-LED的照射能量为指定的照射能量。

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