[实用新型]一种光刻胶喷头的自动清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，尤其涉及一种光刻胶喷头的自动清洗装置。

背景技术

在集成电路工艺制造中，晶体三极管、二极管、电容、电阻以及金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留特征图形的部分。光刻工艺(LithographicProcess)生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件(parts)的关联正确。

光刻工艺是集成电路工艺制造的基本工艺中最为关键的一个，光刻工艺确定了器件的关键尺寸。在制程中各种污染物会对光刻的精准度造成影响，例如，在提供的晶圆表面涂覆光刻胶时，用于喷涂光刻胶的光刻胶喷头匀速地在晶圆表面移动，并向晶圆表面均匀地喷涂光刻胶；光刻胶喷头在喷涂光刻胶过程中，长时间处于光刻胶形成的喷雾环境中，其周围会形成大量结晶颗粒，该结晶颗粒如果不及时清除，不慎掉落后续喷涂光刻胶的晶圆上，轻则造成光刻胶变形，重则引起晶圆划伤问题，并且光刻工艺在一片晶圆的生产过程中要完成5层至20层甚至更多，故，结晶颗粒如不及时清理，产生的污染问题会进一步放大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种光刻胶喷头的自动清洗装置，可以自动对光刻胶喷头进行冲洗，减少光刻胶在喷涂过程中引入的结晶杂质对光刻工艺造成的不良影响，提高光刻工艺的质量。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种光刻胶喷头的自动清洗装置，包括：清洗箱，其特征在于，所述清洗箱上部设置有清洗槽，所述清洗槽底部设置有检测光刻胶喷头的位置的位置传感器、根据所述位置传感器的检测信号开启或关断动力泵的控制器，所述自动清洗装置还包括位于所述清洗箱的内腔的清洗液储存箱和冲洗管，所述动力泵的一端连接所述清洗液储存箱，另一端连接所述冲洗管，所述冲洗管的出液口连接所述清洗槽。

其中，所述清洗槽与所述光刻胶喷头的形状相适应。

其中，所述冲洗管的出液口设置在所述清洗槽的内侧面上。

其中，当所述光刻胶喷头为圆台形时，所述冲洗管的出液口有三个，均匀分布在所述清洗槽内侧面同一高度的截面的圆周上。

其中，还包括连接所述清洗液储存箱的入液管，所述入液管的入液口设置在所述清洗箱的侧面。

其中，还包括将使用过后的清洗液排出清洗箱的排液管，所述排液管连接所述清洗槽，所述拍液管的出液口设置在所述清洗箱的底部。

其中，还包括将清洗过后的光刻胶喷头烘干的烘干机，所述烘干机设置在所述清洗箱的上端。

本实用新型提供的技术方案带来的有益效果：

本实用新型的光刻胶喷头的自动清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱上部设置有清洗槽，所述清洗槽底部设置有检测光刻胶喷头位置的位置传感器、根据所述位置传感器的检测信号开启或关断动力泵的控制器，清洗液储存箱和冲洗管，所述动力泵的一端连接所述清洗液储存箱，另一端连接所述冲洗管；该装置可以自动对光刻胶喷头进行冲洗，减少光刻胶在喷涂过程中引入的结晶杂质对光刻工艺造成的不良影响，提高光刻工艺的质量。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的光刻胶喷头的自动清洗装置的结构示意图。

图2是本实用新型实施例提供的光刻胶喷头的自动清洗装置的俯视图。

图3是本实用新型实施例提供的光刻胶喷头的自动清洗装置的清洗过程的控制系统框图。

具体实施方式

参照图1至图3并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

一种光刻胶喷头的自动清洗装置，包括：清洗箱2，其特征在于，所述清洗箱2上部设置有清洗槽3，所述清洗槽3底部设置有检测光刻胶喷头1的位置的位置传感器4、根据所述位置传感器4的检测信号开启或关断动力泵6的控制器5，所述自动清洗装置还包括位于所述清洗箱的内腔的清洗液储存箱7和冲洗管8，所述动力泵6的一端连接所述清洗液储存箱7，另一端连接所述冲洗管8，所述冲洗管8的出液口9连接所述清洗槽3。

本实施例中，该光刻胶喷头1的清洗装置为一自动清洗系统，清洗装置中内置有清洗液存储箱7，光刻胶喷头1由机械手等控制设备载入清洗槽3内，当位置传感器4检测到该光刻胶喷头1与清洗槽3底部之间的距离达到预设距离时，向控制器输5出信号，控制器5根据该信号开启动力泵6，清洗液存储箱7中的清洗液被动力泵6抽取出来，对光刻胶喷头1进行冲洗。