[发明专利]微发光二极管的转移方法、制造方法、装置和电子设备有效

专利信息
申请号: 201580001212.4 申请日: 2015-05-21
公开(公告)号: CN105493297B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 邹泉波;王喆 申请(专利权)人: 歌尔股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/48;H01L33/62
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 代理人: 杨国权;马佑平
地址: 261031 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 转移 方法 制造 装置 电子设备
【权利要求书】:

1.一种用于微发光二极管转移的方法,包括:

在激光透明的原始衬底上形成微发光二极管;

在接收衬底上设置各向异性导电层;

使微发光二极管与接收衬底上的各向异性导电层接触;

从原始衬底侧用激光照射原始衬底,以从原始衬底剥离微发光二极管;以及

通过使用辅助衬底,从微发光二极管侧对各向异性导电层施加压力,对各向异性导电层进行处理,使得微发光二极管与接收衬底上的接垫电连接,

其中,在辅助衬底的表面上涂覆有临时键合聚合物,以及对各向异性导电层进行处理的步骤还包括:

经由临时键合聚合物将辅助衬底与各向异性导电层键合;以及

在施加压力之后,经由临时键合聚合物对辅助衬底进行解键合,以移除辅助衬底。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,对各向异性导电层进行处理的温度是在150℃至200℃之间,所施加的压力是在1MPa至4MPa之间,以及施加压力的时间是在10秒至30秒之间。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,辅助衬底是平板刚性衬底。

4.根据权利要求1所述的方法,还包括:

对临时键合聚合物进行蚀刻,以暴露微发光二极管的外延层;

在微发光二极管的外延层上形成N电极;以及

在N电极上进行封装。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,各向异性导电层是各向异性导电膜、各向异性导电浆和各向异性导电胶带中的至少一种。

6.一种用于制造微发光二极管装置的方法,包括使用根据权利要求1所述的方法将微发光二极管转移到接收衬底上。

7.一种使用根据权利要求6所述的方法制造的微发光二极管装置,其中,微发光二极管通过各向异性导电层与接收衬底上的接垫电接触。

8.一种电子设备,包含根据权利要求7所述的微发光二极管装置。

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