[发明专利]阻挡膜及制备该阻挡膜的方法

权利要求书

1.一种阻挡膜，其依序包括基底层、无机层和树脂层，并包括存在于所述基底层与所述无机层之间的第一介电层和存在于所述无机层与所述树脂层之间的第二介电层，以及满足以下表达式1或表达式2：

[表达式1]

n_p≤n_s≤n₁<n_i

[表达式2]

n_p≤n_s≤n₂<n_i

在表达式1和表达式2中，n_p为所述树脂层的折射率，n_s为所述基底层的折射率，n₁为所述第一介电层的折射率，n₂为所述第二介电层的折射率，以及n_i为所述无机层的折射率，以及

其中，当n₁大于n₂(n₁>n₂)时，所述第一介电层具有小于450nm的厚度，以及当n₂大于n₁(n₂>n₁)时，所述第二介电层具有小于450nm的厚度。

2.权利要求1所述的阻挡膜，其满足表达式1和表达式2。

3.权利要求1所述的阻挡膜，其中，当n₁等于或大于n₂(n₁≥n₂)时，d₁等于或小于d₂(d₁≤d₂)，以及当n₂等于或大于n₁(n₂≥n₁)时，d₂等于或小于d₁(d₂≤d₁)，其中d₁为所述第一介电层的厚度，以及d₂为所述第二介电层的厚度。

4.权利要求1所述的阻挡膜，其满足表达式1和表达式2，其中，当n₁等于或大于n₂(n₁≥n₂)时，所述第一介电层具有等于或大于100nm且小于450nm的厚度，以及当n₂等于或大于n₁(n₂≥n₁)时，所述第二介电层具有等于或大于100nm且小于450nm的厚度。

5.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层的折射率n₁或所述第二介电层的折射率n₂在1.35至1.9的范围内。

6.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述树脂层的折射率n_p在1.4至1.7的范围内。

7.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述基底层的折射率n_s在1.45至1.78的范围内。

8.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述无机层的折射率n_i为1.65以上。

9.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层的折射率n₁和所述无机层的折射率n_i满足以下表达式3：

[表达式3]

0.3≤(n₁-1)/(n_i-1)≤0.95。

10.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第二介电层的折射率n₂和所述无机层的折射率n_i满足以下表达式6：

[表达式6]

0.3≤(n₂-1)/(n_i-1)≤0.95。

11.权利要求1所述的阻挡膜，其中，根据ASTM E313的黄度指数在-2.5至2.5的范围内。