[发明专利]阻挡膜及制备该阻挡膜的方法

说明书

技术领域

本申请涉及一种阻挡膜和制备该阻挡膜的方法。

背景技术

构成设备(如有机或无机发光设备、显示设备和光伏设备)的内部的电子装置和金属线，在与外部化学物质(如氧或湿气)相接触时，倾向于劣化或被氧化，变得不能执行它们的指定功能。因此，需要保护所述电子元件免受这些化学物质的损害。为此，已提出了利用玻璃板作为基板材料或覆盖板来隔绝这些化学敏感的内部装置。玻璃板具有的优点为：它们在透光率、热膨胀系数和耐化学性方面是令人满意的。然而，玻璃具有的缺点为：其不但重，而且脆弱和易碎，处理时需要加倍小心。

因此，在目前用于电子装置的用途中，存在用塑料来替代玻璃板的积极尝试，塑料是比玻璃板更轻和具有更高的抗冲击性及更高的柔韧性的材料。然而，相比于玻璃板，目前商业生产的塑料膜在物理性能方面存在许多的缺点，需要改善。特别是，在塑料的耐水性和气体阻隔性能上迫切地需要改善，且全世界在积极开展研究以开发出采用塑料膜的阻挡膜。此外，在利用光的潜在用途(如显示器或光伏设备)方面，需要阻挡膜不但具有优异的气体阻隔性能，还要具有优异的透光率。对于用于信息输送显示用途的阻挡膜，不但透光率是重要的，黄度指数也是重要的。若用于显示器制造的阻挡膜具有太高的黄度指数绝对值，可导致在装置上显示的光学数据的颜色方面的失真。因此，需要具有优异的气体阻隔性能和透光率的阻挡膜。

[现有技术文献]

[专利文献]

1、日本未审查专利第2007-090803号

发明内容

[技术问题]

本申请提供了一种阻挡膜及该阻挡膜的制造方法，所述阻挡膜可适用于有机或无机发光设备、显示设备和光伏设备，以有效隔绝内部电子元件免受化学物质(如湿气或氧)的损害，同时保持了优异的光学特性。

[技术方案]

本申请涉及一种阻挡膜。在一个实例中，本申请的阻挡膜可被用于有机或无机发光设备、显示设备和光伏设备中。

在一个实例中，本申请的阻挡膜可依序包括基底层、无机层和树脂层。此外，所述阻挡膜可包括存在于所述基底层与所述无机层之间的第一介电层，或存在于所述无机层与所述树脂层之间的第二介电层。也就是说，本申请的阻挡膜可包括所述第一和第二介电层的至少一个。此外，所述阻挡膜可满足以下表达式1或表达式2。根据以上所述，在不存在所述第一介电层的情况下，所述阻挡膜可满足表达式2，以及在不存在所述第二介电层的情况下，所述阻挡膜可满足表达式1。此外，如下所述，若所述第一和第二介电层均存在，则所述阻挡膜可满足表达式1和表达式2的至少一个。

例如，如图2所示的阻挡膜10可依序具有基底层14、第一介电层13、无机层12、第二介电层11和树脂层15，并可满足表达式1或表达式2。

[表达式1]

n_p≤n_s≤n₁<n_i

[表达式2]

n_p≤n_s≤n₂<n_i

在表达式1和表达式2中，n_p为所述树脂层的折射率，n_s为所述基底层的折射率，n₁为所述第一介电层的折射率，n₂为所述第二介电层的折射率，以及n_i为所述无机层的折射率。

如图1所示，在本申请的另一个实施方式中，阻挡膜10依序包括基底层14、无机层12、第二介电层11和树脂层15，并可满足以下表达式2。在此情况下，阻挡膜10可不包括第一介电层13。

[表达式2]

n_p≤n_s≤n₂<n_i

在表达式2中，n_p为所述树脂层的折射率，n_s为所述基底层的折射率，n₂为所述第二介电层的折射率，以及n_i为所述无机层的折射率。即，根据阻挡膜10的前述结构，可省略第一介电层13。在一个实例中，当根据本申请的阻挡膜的基底层足够平坦时，则可省略可起到平坦作用的所述第一介电层。因此，所述无机层可直接层合于平坦的基底层上。