[发明专利]透明导电性薄膜有效
| 申请号： | 201580002254.X | 申请日： | 2015-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN105659198B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 加藤大贵;川上梨恵;藤野望;梨木智刚 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B3/10 | 分类号： | H01B3/10;H01B3/30;H01B3/38;H01B3/42;H01B3/44;H01B5/14;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种透明导电性薄膜，其特征在于，
所述透明导电性薄膜依次具备透明基材、第1光学调整层、无机物层和透明导电层，
所述第1光学调整层具有比所述透明基材的折射率更低的折射率，并且具有10nm以上且35nm以下的厚度，
所述无机物层具有比所述第1光学调整层的折射率乘以1.13得到的値的绝对值更低的折射率、或者与所述绝对值相同的折射率。
2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，
所述透明导电性薄膜还具备配置在所述透明基材与所述第1光学调整层之间的第2光学调整层，
所述第2光学调整层具有比所述透明基材的折射率更高的折射率。
3.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，
所述第2光学调整层具有100nm以上且300nm以下的厚度。
4.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，
所述无机物层具有1.5nm以上且10nm以下的厚度。
5.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，
所述透明导电层的厚度为25nm以上。
6.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，
所述第1光学调整层仅由树脂形成。
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