[发明专利]透明导电性薄膜有效
申请号: | 201580002254.X | 申请日: | 2015-03-11 |
公开(公告)号: | CN105659198B | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 加藤大贵;川上梨恵;藤野望;梨木智刚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B3/10 | 分类号: | H01B3/10;H01B3/30;H01B3/38;H01B3/42;H01B3/44;H01B5/14;C23C14/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 | ||
透明导电性薄膜(1)依次具备透明基材(2)、第1光学调整层(4)、无机物层(5)和透明导电层(6)。第1光学调整层(4)具有比透明基材(2)的折射率nA更低的折射率nC,并且具有10nm以上且35nm以下的厚度TC。无机物层(5)具有比第1光学调整层(4)的折射率nC乘以1.13得到的值的绝对值|nC×1.13|更低的折射率nD。
技术领域
本发明涉及透明导电性薄膜,详细而言,涉及在触摸屏用薄膜等中使用的透明导电性薄膜。
背景技术
迄今,已知将具备具有规定图案形状的透明导电层的透明导电性薄膜用于触摸屏的显示器显示部。
例如,提出了在透明薄膜基材的单面或两面依次形成有第1透明电介质层、第2透明电介质层和图案化了的透明导电层的透明导电性薄膜(例如参见专利文献1)。
专利文献1的透明导电性薄膜中,透明导电层的图案部与图案开口部的差异受到抑制,外观良好。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-27294号公报
发明内容
然而,专利文献1记载的透明导电性薄膜存在透明导电层容易产生裂纹的不利情况。
本发明的目的在于提供在能够抑制布线图案被辨识的同时能够抑制透明导电层产生损伤的透明导电性薄膜。
本发明的透明导电性薄膜的特征在于,依次具备透明基材、第1光学调整层、无机物层和透明导电层,前述第1光学调整层具有比前述透明基材的折射率更低的折射率,并且具有10nm以上且35nm以下的厚度,前述无机物层具有比前述第1光学调整层的折射率乘以1.13得到的值的绝对值更低的折射率、或者与前述绝对值相同的折射率。
该透明导电性薄膜由于具备具有特定的折射率和厚度的第1光学调整层和具有特定的折射率的无机物层,因此能够在抑制透明导电层产生损伤的同时抑制布线图案被辨识,并且具有优异的抗划伤性和优异的透明性。
此外,对本发明的透明导电性薄膜而言,优选的是,还具备配置在前述透明基材与前述第1光学调整层之间的第2光学调整层,前述第2光学调整层具有比前述透明基材的折射率更高的折射率。
该透明导电性薄膜能够更进一步抑制布线图案被辨识,并且具有更为优异的抗划伤性。
此外,对本发明的透明导电性薄膜而言,优选的是,前述第2光学调整层具有100nm以上且300nm以下的厚度。
该透明导电性薄膜由于第1光学调整层的厚度在上述特定范围,因此能够更进一步抑制布线图案被辨识,并且具有更为优异的抗划伤性。
此外,对本发明的透明导电性薄膜而言,优选的是,前述无机物层具有1.5nm以上且10nm以下的厚度。
该透明导电性薄膜由于无机物层的厚度在特定范围,因此能够更进一步抑制透明导电层产生损伤。
此外,对本发明的透明导电性薄膜而言,优选的是,前述透明导电层的厚度为25nm以上。
透明导电层的厚度为上述特定值以上时,透明导电层容易产生损伤。然而,本发明的透明导电性薄膜由于具备上述第1光学调整层和无机物层,因此能够有效抑制透明导电层的上述损伤。
此外,对本发明的透明导电性薄膜而言,优选的是,前述第1光学调整层仅由树脂形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580002254.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。